Gebraucht DNS / DAINIPPON LA-820 #9198165 zu verkaufen

DNS/DAINIPPON LA-820 ist ein Rapid Thermal Processor (RTP), der speziell für Anwendungen in der fortschrittlichen Mikrofertigung und Gerätecharakterisierung entwickelt wurde. Es ist eine robuste und zuverlässige Ausrüstung mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Das System ist in der Lage, für jede Wiederholung thermische Zyklen mit einer Zykluszeit von 10 ms zu erzeugen. Es bietet einen thermischen Prozesstemperaturbereich von -150 ° C bis 550 ° C mit einer Auflösung von 0.1K und einer Temperaturgleichförmigkeit von ± 2K. Das Gerät umfasst eine schnell beheizte Kochplatte mit einem Ofen, der eine thermische Zyklusfähigkeit aufweist, sowie eine geschlossene Reaktionskammer mit inerter Stickstoff- oder Argongasversorgungsmaschine. Die Reaktionskammer ermöglicht die Verarbeitung von bis zu vier Wafern mit jeweils 8 in. im Durchmesser. Die Kammer hat einen Kammertemperaturbereich von 25 ° C bis 350 ° C mit einer Auflösung von 0.1K und einer Temperaturgleichförmigkeit von ± 2K. Das Werkzeug umfasst auch eine vierachsige Translationsstufe, die eine präzise und genaue Steuerung der Waferposition und Orientierung während der thermischen Bearbeitung ermöglicht. Die integrierte Steuerung sorgt für hohe Genauigkeit und Präzision. Es kann auch alle Anomalien während der thermischen Verarbeitung erkennen, so dass es für den Einsatz in hochpräzisen, komplexen thermischen Prozessen geeignet ist. Die integrierte Datenerfassungssoftware ermöglicht es Anwendern, verschiedene Prozessparameter wie Temperatur, Gaskonzentration und Durchfluss zu überwachen. DNS LA820 ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, darunter ein geschlossenes Temperaturregelungsmodell, ausfallsichere Sensoren und automatische Abschaltung für Übertemperatursituationen. Das Gerät enthält auch eine thermische Manipulationssoftware, die es Anwendern ermöglicht, thermische Zyklussequenzen des Geräts, einschließlich Hoch-/Abkühlsequenzen, mit hoher Präzision zu programmieren. DAINIPPON LA 820 ist ein ideales System für fortschrittliche Mikrofabrikation und Gerätecharakterisierung. Es bietet eine sehr schnelle thermische Zyklusfähigkeit und eine robuste und zuverlässige Einheit mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Es eignet sich für die Verarbeitung von mehreren Wafern mit einer Reihe von thermischen Profilen, so dass es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet.