Gebraucht EATON NOVA / AXCELIS Reliance 850 #191216 zu verkaufen

EATON NOVA / AXCELIS Reliance 850
ID: 191216
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
Rapid thermal annealer, 8" 1997 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS Reliance 850 ist ein fortschrittlicher schneller thermischer Prozessor, der für die hochpräzise und schnelle thermische Verarbeitung in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist die fortschrittlichste Technologie auf dem Markt, die überlegene Wiederholbarkeit und unübertroffene Präzision gewährleistet. AXCELIS Reliance 850 bietet Anwendern ein Maximum an zuverlässiger thermischer Waferbearbeitungssteuerung, die weniger Defekte, eine verbesserte Untergrenze und höhere Erträge produzieren. EATON NOVA Reliance 850 wurde entwickelt, um eine präzise und konsistente thermische Verarbeitung zu ermöglichen und Fehler durch die Benutzerkontrolle zu beseitigen. Der Prozessor verwendet einen Steueralgorithmus, um die Echtzeitanwendung kontinuierlich zu überwachen und die Temperatur der Kammer kontinuierlich einzustellen, um eventuelle Schwankungen während des Prozesses zu kompensieren. Diese Fähigkeit ermöglicht wiederholbare und konsistentere Ergebnisse mit weniger Defekten. Der Prozessor kann auch angepasst werden, um die genauen Spezifikationen des Benutzers mit einer Vielzahl von anpassbaren Optionen zu erfüllen. Es kann beispielsweise eingestellt werden, jeden Wafertyp bei einem Temperaturbereich und für eine Reihe von Prozesszeiten zu verarbeiten. Damit ist sie eine ideale Lösung für komplexe Produktions- oder kritische Prozessabläufe. Auch Reliance 850 bietet unübertroffene Präzision. Es verfügt über Pulsmodulationsheiztechnologie, die es erlaubt, exakte Temperaturen schnell und genau zu erreichen. Es hat auch ein höheres Maß an Kontrolle als herkömmliche schnelle thermische Prozessoren, die sicherstellt, dass sie die genaue Temperatur erreichen und dort bleiben, Fehler auf ein Minimum reduzieren. Darüber hinaus ist der Prozessor in der Lage, Echtzeit-Rückkopplung auf die Temperatur der Heizung oder Gasleitungen und die tatsächliche Wafertemperatur zu liefern, so dass der Benutzer die Temperatur bei Bedarf einstellen kann. EATON NOVA/AXCELIS Reliance 850 bringt auch dem Benutzer eine unübertroffene Leistung. Der Prozessor ermöglicht schnelle thermische Verarbeitungszeiten, reduziert das Risiko von thermischen Oxiddefekten und verbessert die Ausbeute. Darüber hinaus verfügt es über ein fortschrittliches prädiktives Modell, das die optimale Zeit für jeden Schritt des thermischen Prozesses antizipieren kann und Prozesszeiten ermöglicht, die schneller als je zuvor sind. Schließlich verfügt AXCELIS Reliance 850 über eine umfassende Palette von Tools, die es ermöglichen, das System in vollem Umfang zu nutzen. Diese Werkzeuge umfassen Wärmelastmodellierung, Prozessabstimmung, Heizungsabbildung, Gasflussoptimierung und Datenprotokollierung. Mit all diesen Funktionen kann der Benutzer den Prozess überwachen und anpassen, um das höchste Qualitätsniveau mit wettbewerbsfähiger Geschwindigkeit zu erzeugen. Insgesamt ist EATON NOVA Reliance 850 einfach der fortschrittlichste Schnellwärmeprozessor auf dem Markt. Es ist in der Lage, zuverlässige, wiederholbare und hochpräzise Verarbeitungsergebnisse zu liefern und dabei die Leistung seines Vorgängers zu übertreffen. Mit dieser Technologie kann die Halbleiterindustrie die Grenzen des Fortschritts weiter überschreiten und ihre Prozesse für maximale Effizienz optimieren.
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