Gebraucht KORONA RTP-1200 Plus #9411492 zu verkaufen

KORONA® KORONA RTP-1200 Plus Schnellwärmeprozessor ist ein hochleistungsfähiger, modularer Schnellwärmeprozessor, der in der Lage ist, schnelle thermische Verarbeitung (RTP) und schnelle thermische Glühung (RTA) von Halbleiterscheiben durchzuführen. Der Prozessor verfügt über einen horizontalen Vierzonenofen mit konstanter Geschwindigkeit und hoher Temperatur, eine Vakuumladung und eine Zwangsluftkühlung mit zwei Sätzen von Kühlspulen. Der Prozessor ist auch in der Lage, in situ in Echtzeit rekombinative Abscheidung. Der Vierzonen-Direktwärmeprozessor ist mit Schnellwärmekammern ausgestattet. Die vier Ofenkammern werden mit einem unabhängig verstellbaren Netzteil beheizt, was traditionelle oder fortschrittliche RTP- oder RTA-Rezepte ermöglicht. Die vier Zonen werden separat erhitzt und gekühlt und können nacheinander oder gleichzeitig betrieben werden. Der Prozessor hat die Fähigkeit, einen Wafer in weniger als 30 Sekunden hochzufahren, ihn in 10 Sekunden auf eine vom Benutzer angegebene Temperatur abzukühlen und den Wafer bei einer deutlich niedrigeren Temperatur zu halten. Um Präzisionsgenauigkeit und Wiederholbarkeit von RTP-1200 Plus zu gewährleisten, verwendet das SPS-basierte Steuerungssystem eine fortschrittliche Prozesstemperaturüberwachung und -kontrolle. Das Gerät dient der Überwachung und Steuerung der Temperaturen der gesamten Prozesskammer, einschließlich der oberen und unteren Heizungen. Die Steuermaschine hat auch die Fähigkeit, die Temperaturen jeder Zone unabhängig zu überwachen und zu steuern. Das Vakuumbelastungswerkzeug hilft, die präzise Bearbeitung aufrechtzuerhalten. Die Last für den Prozessor ist mit einer Solldrucksteuerung ausgestattet, die den Kammerdruck auf einem vorgegebenen Niveau halten kann, so daß sie die thermische Verarbeitung der Halbleiterscheibe nicht stört. Die Zwangsluftkühlung sorgt für einen effizienten Wärmeübergang von der Prozesskammer auf die Umgebungsluft und sorgt so dafür, dass die Temperatur der bearbeiteten Wafer auf dem gewünschten Niveau bleibt. Zur Schnellkühlung der Wafer werden zwei Kühlschlangen eingesetzt. KORONA RTP-1200 Plus hat auch die Fähigkeit, in situ rekombinative Abscheidung in Echtzeit durchzuführen. Der Prozessor verwendet ein speziell entwickeltes RTP-CVD- oder RTP-PECVD-Beschichtungsmodell, das in der Lage ist, gleichmäßige dünne Filme auf einer Reihe von Halbleitermaterialien abzuscheiden. KORONA® RTP-1200 Plus Rapid Thermal Processor kann Halbleiterscheiben in einem weiten Bereich von Temperaturen verarbeiten und ist in der Lage, sowohl RTP- als auch RTA-Prozesse durchzuführen. Der Prozessor ist mit einer hochgenauen Steuereinrichtung, einer Vakuumladung, einem Vierzonen-Horizontalofen und einem Zwangsluftkühlsystem mit zwei Sätzen von Kühlspulen ausgestattet. Dieser Prozessor ist eine ideale Lösung für jede Halbleiterherstellungsanlage, die einen zuverlässigen und leistungsfähigen schnellen thermischen Prozessor benötigt.