Gebraucht NPS RHP440 #9160845 zu verkaufen

NPS RHP440 Rapid Thermal Processor ist ein modernes Temperaturkontrollgerät, das entwickelt wurde, um einen hohen Durchsatz, ein überlegenes Temperaturrampen und eine präzise Temperaturregelung zu erreichen. Es ist in zwei Modellen erhältlich - eine Einkammer-Ausrüstung und ein Zwei-Kammer-System - beide bieten Kühlung, Heizung und Halt für die schnelle Bearbeitung von Wafern. Die Einkammereinheit ist ein Schnellglühwerkzeug, das beispiellose Wärmeraumraten sowie eine beeindruckende Temperaturhaltegenauigkeit von ± 0,1 ° C bietet. Es bietet auch eine Temperaturgleichmäßigkeit von ± 0,5 ° C über den gesamten Wafer mit hohen Temperaturbelastungen von bis zu 1200 ° C. Die Zweikammermaschine ist ein multifunktionaler heißer und kalter Schnellwärmeprozessor zur Erstellung von Hochleistungs-ICs. Es hat einen maximalen Temperaturbereich von 400-900 ° C, mit ± Temperaturgleichförmigkeit von 0,25 ° C über den gesamten Wafer. NPS RHP 440 verfügt auch über ein N 2 Reinigungswerkzeug zum Entfernen von Sauerstoff. Die Benutzeroberfläche ist intuitiv und benutzerfreundlich, so dass Bediener Betriebsparameter schnell und einfach einstellen können. Da die Eingabeparameter des Bedieners für unterschiedliche Betriebsbedingungen leicht gespeichert werden können, können RHP440 verwendet werden, um konstant wiederholbare thermische Verarbeitungsergebnisse zu erzielen. Es verwendet eine zweischichtige Quarzschicht, um die Waferkammer zu säumen, um eine dicht verschlossene Umgebung und maximale Temperaturstabilität zu gewährleisten. RHP 440 Schnellwärmeprozessor hat eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen. Dazu gehören Überhitzungsschutz für die Kammer, automatische Alarme und automatische Abschaltungen im Notfall. Der Prozessor verfügt auch über ein elektronisches Schloss, um sicherzustellen, dass nur autorisiertes Personal auf das Objekt zugreifen kann. Zusammenfassend lässt sich sagen, dass NPS RHP440 Rapid Thermal Processor ein Temperaturregelgerät ist, das zur schnellen Bearbeitung von Wafern entwickelt wurde und gleichzeitig eine präzise Temperaturregelung gewährleistet. Es verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche und bietet eine ausgezeichnete Temperaturgleichmäßigkeit über den gesamten Wafer. Es verfügt über nützliche Sicherheitsfunktionen und ist sowohl in Einzel- als auch in Zweikammer-Modellen erhältlich.