Gebraucht NPS RPH200 #293603755 zu verkaufen

NPS RPH200
ID: 293603755
Rapid Thermal Processor (RTP).
NPS RPH200 Rapid Thermal Processor (RTP) ist ein leistungsstarkes, voll ausgestattetes Gerät zur Optimierung der thermischen Verarbeitung von Halbleitermaterialien. Die Ausrüstung ist entworfen, um präzise Temperaturregelung, gleichmäßige Heizung und schnelle Rampenraten, großen Temperaturbereich und unabhängige Steuerung jeder Stufe der thermischen Verarbeitung zur Verfügung zu stellen. RPH200 ist ein zweistufiges RTP mit zwei unabhängigen Heizelementen und kann Temperaturen bis 500 ° C erreichen. Das System umfasst zwei unabhängige Heizelemente, die unabhängig temperaturgeregelt sind. Beide Heizelemente können unabhängig programmiert werden und werden automatisch synchronisiert, um eine gleichmäßige Erwärmung zu gewährleisten. Die leistungsstarke Heizelementkonfiguration ermöglicht schnelle Rampenraten, gleichmäßige Temperaturen und eine verbesserte Temperaturgleichförmigkeit über den Wafer. Das Gerät verwendet eine geschlossene Kreislauf-Umgebungsdruckregelmaschine, die es ermöglicht, eine gleichmäßige Druckregelung und eine ausgezeichnete Temperaturgleichförmigkeit über den Wafer zu erreichen. Kalte Platten sind auch verfügbar, um eine alternative Kühlquelle zur Verfügung zu stellen. Das Tool wurde entwickelt, um mit einer Vielzahl von Prozesswerkzeugen wie reaktiven Ionenätzsystemen, atomaren Schichtabscheidungssystemen, Lithographiewerkzeugen und mehr verwendet zu werden. NPS RPH200 verfügt über mehrere Standardfunktionen, die die Prozesssteuerung erleichtern. Es enthält einen mehrkanaligen, Echtzeit-Prozessmonitor, mit dem die Prozessoptimierung einfach überwacht und angepasst werden kann. Optional steht auch ein eingebetteter Sauerstoffsensor (O2) zur Verfügung, der eine Rückkopplung über den Sauerstoffgehalt der Reaktionskammer ermöglicht und eine bessere Prozesssteuerung ermöglicht. RPH200 ist ein zuverlässiges, hocheffizientes RTP-Asset, das zur Prozessoptimierung fähig ist. Es bietet eine präzise Temperaturregelung, Gleichmäßigkeit, schnelle Rampenraten und bietet die Flexibilität, mit einer Vielzahl von Prozesswerkzeugen verwendet zu werden. Das Modell ist auf Benutzerfreundlichkeit ausgelegt, um die Konsistenz der Ergebnisse über mehrere Proben zu gewährleisten.
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