Gebraucht PREMTEK RTP 381 SA #9312338 zu verkaufen

PREMTEK RTP 381 SA ist ein fortschrittlicher schneller thermischer Prozessor, der eine hervorragende Leistung mit optimierter Zykluszeit liefert. RTP 381 SA verwendet ein proprietäres thermisches Regelsystem und erweiterte Leistungsregulierungsfunktionen, um eine präzise thermische Stabilität zu gewährleisten und eine hohe Wärmeübertragungsrate zu erreichen. Das Gerät kann Wafer bis zu 200mm Durchmesser und bis zu 25mm Höhe verarbeiten. Es wurde entwickelt, um eine wiederholbare, zuverlässige thermische Steuerung zur Erzielung einer hochgenauen thermischen Verarbeitung bereitzustellen. Das System nutzt Niederstickstoffdruckglühung (LNPA) und verfügt über programmierbare Heiz- und Kühlprofile. Es hat einen Temperaturbereich von bis zu 1300 ° C und kann während der Hoch- und Abkühlzyklen Spitzenleistungen von bis zu 1500 Watt erreichen. Die Durchlaufbrause ermöglicht eine gleichmäßige Temperaturverteilung über die Oberfläche des Wafers, was zu einer verbesserten Prozessgleichförmigkeit führt. Darüber hinaus verfügt die Vorrichtung über eine integrierte zweiarmige Luftverdrängungseinheit zur Erzeugung eines gleichmäßigen Wärmeflusses an unterschiedlichen Positionen über die Waferoberfläche. PREMTEK RTP 381 SA kann auf eine Vielzahl von Substratmaterialien wie Silizium, Galliumarsenid und anderen Halbleitermaterialien aufgebracht werden. Das Gerät verfügt über erweiterte Sicherheitskontrollen, um die Möglichkeit von versehentlichen Übertemperierungen oder gefährlichen Einschmelzen zu reduzieren. Darüber hinaus verwendet RTP 381 SA aktive Kraftsensoren, um die Wafertemperatur in Echtzeit zu überwachen, einschließlich des Wärmeauslaufschutzes. PREMTEK RTP 381 SA verfügt über eine Vielzahl von Funktionssätzen, um die Effizienz zu verbessern und einen optimierten Prozesszyklus bereitzustellen. Diese Merkmale umfassen programmierbare Speichermodi, mehrstufige Temperaturverlaufsprotokollierung, hochauflösende Temperaturbeschriftung, Verschiebungsmuster und Punktmustertemperaturkorrektur und Retikelmustertemperaturkorrektur. Darüber hinaus kann das Gerät weiter an bestimmte Prozessanforderungen angepasst werden, um höchste Leistung zu liefern, ohne auf Genauigkeit zu verzichten.