Gebraucht STEAG / MATTSON / AST 3000 #9262640 zu verkaufen

ID: 9262640
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2002
Rapid Thermal Processor (RTP), 8" (2) ASYST SMIF RORZE Dual arm robot Gases: O2, NH3, N2 2002 vintage.
STEAG/MATTSON/AST 3000 ist ein Schnellwärmeprozessor (RTP) für Hochleistungsanwendungen. Es ist ein fortschrittliches thermisches Verarbeitungssystem, das eine Kombination aus Infrarotlampen und heißen Gasen verwendet, um die Temperatur von Substraten oder anderen Materialien schnell zu erhöhen und zu senken. Mit AST 3000 können Anwender in einem Bruchteil der durch herkömmliche Methoden geforderten Zeit ein breites Spektrum an Temperaturen erreichen. STEAG 3000 wurde mit einer einzigartigen Konfiguration von zwei Kammern konzipiert: einer Cold Zone-Kammer und einer Hot Zone-Kammer. Die in der oberen Gerätehälfte befindliche Cold Zone-Kammer ist ein aktiver Bereich zur Heizung und Kühlung. Die Kammer ist mit IR-Lampen zur direkten Erwärmung, einem für verschiedene Gasgemische programmierbaren Gasstromsystem und einem kryogenen Speicher zur kryogenen Kühlung ausgestattet. Die in der unteren Hälfte der Vorrichtung befindliche Hot Zone-Kammer dient zum Glühen und Wärmebehandeln von Substraten. Die Hot Zone-Kammer beherbergt einen vorhangartigen Strahlungsschild und Heizelemente sowie eine Reihe hitzebeständiger optischer Fenster. Die Software von 3000 umfasst benutzerfreundliche grafische Steuerungen, die eine klare Visualisierung thermischer Prozesse ermöglichen. Die Software ermöglicht eine effiziente und wiederholbare Programmierung von Temperaturprofilen und Regelparametern. MATTSON 3000 ist zudem mit einem Echtzeit-Temperaturüberwachungssystem ausgestattet, das eine umfassende Charakterisierung und Optimierung von Prozessparametern ermöglicht. STEAG/MATTSON/AST 3000 ist ein zuverlässiges Werkzeug für die schnelle thermische Verarbeitung. Es ist in der Lage, Materialien in einem Bruchteil der Zeit zu verarbeiten, die durch herkömmliche Methoden gefordert wird, und es ist entworfen, um eine genaue und wiederholbare Kontrolle der Heiz- und Kühlraten zu ermöglichen. Dieses fortschrittliche Tool bietet eine schnelle und zuverlässige Möglichkeit, Wafer und andere Substrate mit extremen Temperaturschwankungen zu verarbeiten.
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