Gebraucht STEAG / MATTSON / AST Helios #293624124 zu verkaufen

ID: 293624124
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
Rapid Thermal Processors (RTP), 12" 2004 vintage.
STEAG/MATTSON/AST Helios ist ein schneller thermischer Prozessor (RTP), der in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Die Vorrichtung dient dazu, Halbleiterbauelemente wie Transistoren und Leiterplatten während der Verarbeitung schnell und gleichmäßig zu erwärmen. Das Gerät nutzt einen induktiven Ofen, um die Komponenten schnell und gleichmäßig zu erwärmen. Seine fortschrittliche thermische Profilsteuerung bietet eine schnelle und gleichmäßige Erwärmung, um die gewünschte Temperaturregelung aufrechtzuerhalten. AST Helios verfügt auch über eine eingebaute Gasinjektionsanlage für Stickstoff, Argon und Wasserstoff, die eine schnelle und kontrollierte Atmosphärenkontrolle ermöglicht. Das Gerät hat eine maximale Temperatur von 1250 ° Celsius und sorgt für eine gleichmäßige Erwärmung über den Wafer. Dadurch ergibt sich ein glatter und gleichmäßiger thermischer Gradient über das Substrat. Es hat einheitliche Rampe nach oben und abkühlen Raten, so dass eine bessere Kontrolle über den thermischen Zyklus. Das System bietet eine dynamische Temperaturregelung mit einer maximal erreichbaren Rampenrate von 350 ° C pro Sekunde. Dies ermöglicht eine schnelle thermische Bearbeitung von Bauteilen, ohne diese zu beschädigen. STEAG Helios ist in der Lage, Datenpunkte während der Verarbeitung zu messen und zu erfassen. Es verfügt auch über eine integrierte Datenerfassungseinheit, die eine kontinuierliche Überwachung während des gesamten Prozesses ermöglicht. Diese Datenerfassung dient der optimalen Gleichmäßigkeit und Temperaturregelung des Wafers. Das Gerät kommt mit einer Vielzahl von benutzerfreundlichen Bedienelementen, von einer einfachen „One-Touch“ -Bedienung bis hin zu einer ganzen Reihe von Funktionen zur Leistungs-, Zeit- und Temperaturregelung. MATTSON Helios enthält auch eine Vielzahl von erweiterten Funktionen wie mehrere Einstellpunkte, Alarmfunktionen, Zugriffskontrolle für den Bediener und eine Funktion „FAF-Trace“ (Flexible asymmetrische Füllung). Letztere ermöglicht es der Maschine, die Parameter der thermischen Rampe dynamisch einzustellen, so dass der Prozess auf die spezifischen Anforderungen eines Wafers zugeschnitten werden kann. Helios ist vielseitig und einfach zu bedienen. Es ist für einfache Bedienung konzipiert und seine intuitiven Bedienelemente ermöglichen eine schnelle Validierung und Prozesseinrichtung. Das Gerät ist mit modernsten Halbleiterverarbeitungsgeräten kompatibel und ermöglicht eine hochintegrierte und automatisierte Verarbeitung. Insgesamt ist STEAG/MATTSON/AST Helios ein effektiver schneller thermischer Prozessor, der den Anforderungen der heutigen Halbleiterherstellungsprozesse gerecht wird. Seine schnelle Heizleistung und erweiterte thermische Steuerungsfunktionen bieten die Präzision und Vielseitigkeit, die von der modernen Halbleiterindustrie gefordert werden.
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