Gebraucht STEAG / MATTSON / AST Helios #9219516 zu verkaufen

ID: 9219516
Wafergröße: 12"
Standalone rapid thermal processing (RTP) system, 12" Process: RTA / Spike anneal Process pressure: ATM Process temperature: 115°C Clean room interface: Front interface with (3) loadports Front end configuration: Ball room Platform: Loadport type: TDK Loadport model: TAS300 FOUP Reader: RFID Automation: OHT (E84) GEM Ethernet (HSMS) MMC MATTSON P/N: 3001068 Sequencer MATTSON P/N: 17002560 I/O Controller MATTSON P/N: 17000910 (8) Cooling stations (4) Dummy stations Robot: RORZE 700 Dual arm: Upper arm: Metal blade Lower arm: Quartz blade Process module 1: Wafer pyro MATTSON P/N: 17001048 Lamp pyro MATTSON P/N: 17001040 Gas 3: UFC 8100, N2, 20 SLM Gas 4: UFC 3101, N2, 150 SLM Gas 7: UFC 8100, O2, 20 SLM Gas 8: UFC 3101, O2, 150 SLM Gas 9: UFC 8100, O2, 2 SLM Low temperature controller: No Process quartzware: Standard Process module 2: Wafer Pyro MATTSON P/N: 17001048 Lamp Pyro MATTSON P/N: 17001040 Gas 3: UFC 8100, N2, 20 SLM Gas 4: UFC 3101, N2, 150 SLM Gas 7: UFC 8100, O2, 20 SLM Gas 8: UFC 3101, O2, 150 SLM Gas 9: UFC 8100, O2, 2 SLM Low temperature controller: No Process quartzware: Standard Electrical requirements: UPS: Internal Transformer power: 480 V.
STEAG/MATTSON/AST Helios ist ein Schnellwärmeprozessor (RTP). Es wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Prozessen wie schnelles thermisches Glühen (RTA), schnelle thermische Nitridation (RTN) und schnelle thermische Oxidation (RTO) zu behandeln. Seine Fähigkeit, diese Prozesse mit großer Kontrolle und Präzision durchzuführen, macht es zu einer sehr wertvollen Ausrüstung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. AST Helios verfügt über eine Vielzahl von Funktionen, die es für viele Prozessanforderungen geeignet machen. Es hat die Fähigkeit, Temperaturen bis zu 2000 ° C in einer Millisekunde für Prozesse wie RTA und RTN zu rampen. Seine Temperaturregelungssysteme ermöglichen eine präzise Regelung der Temperaturen während des gesamten Prozesses auf eine Auflösung von 0,1 ° C mit Software und eine Auflösung von 0,5 ° C mit Hardware. Das System verfügt auch über eine Wärmebildkamera, um die Temperaturen zu überwachen und die Stabilität während des Prozesses zu überprüfen. Es kann auch bis zu 8 Quarzscheibenträger aufnehmen und bis zu maximal 100mm Wafergrößen für die Verarbeitung unterstützen. Das Gerät ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, die es zu einem zuverlässigen und sicheren Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen machen. Seine mehreren Sensoren überwachen die Bedingungen der Prozessumgebung und bieten kontinuierliches Feedback für die Maschinensteuerung. Das Feedback sorgt für eine sichere und konsistente Umgebung während des Prozesses. Das Tool TEC ist auch für alle Sicherheits- und Temperaturanforderungen ausgelegt und wird durch eigene thermische Sensoren und Asset-Komponenten überwacht und isoliert. Das Steuermodell verfügt auch über konfigurierbare Controller-Sperren und Authentifizierungssysteme, um unbefugten Zugriff auf das Gerät zu verhindern. STEAG Helios wurde in zahlreichen Branchen eingesetzt, sowohl kommerziell als auch akademisch, um hochwertige Halbleiterbauelemente herzustellen. Seine Fähigkeit, eine hohe Präzisionskontrolle und wiederholbare Prozesse anzubieten, macht es zu einem wertvollen Werkzeug für die Geräteherstellung. Seine vielfältigen Sicherheitssysteme und thermischen Steuerungen sowie die Wärmebildfunktionen machen MATTSON Helios zu einem zuverlässigen und sicheren Prozessor für viele Anwendungen.
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