Gebraucht STEAG / MATTSON / AST Helios #9273940 zu verkaufen

STEAG / MATTSON / AST Helios
ID: 9273940
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12" (3) TDK TAS300 Load port (2) Chambers (2) Blowers 2007 vintage.
STEAG/MATTSON/AST Helios ist eine fortschrittliche schnelle thermische Prozessormaschine, die speziell für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde, um eine verbesserte Leistung zu bieten. Es ist in der Lage, hohe thermische Gleichmäßigkeit über Wafer und über verschiedene Temperaturspiele einer einzigen Straßenkarte zu liefern. AST Helios bietet zudem einen außergewöhnlichen Waferdurchsatz und eine hohe Wiederholbarkeit mit engen Prozessmargen. STEAG Helios verwendet eine hochmotorisierte 2000 W Strahlungsheizquelle und eine Cooling Flush-Technik, um Substraten eine schnelle Wärmebehandlung zu ermöglichen. Es enthält auch ein einzigartiges patentiertes Cold Wall-Design, um Interferenzeffekte zwischen dem Substrat und den Prozesskammerwänden zu beseitigen. Dies reduziert die Nutzungszeit erheblich und ermöglicht wesentlich kürzere Zykluszeiten. Helios verfügt über ein beeindruckendes Steuerungssystem, das einen Digital Thermal Control Message Bus (DTM-Bus) und Predictive Thermal Control Messaging (PTM) verwendet. Dies ermöglicht eine präzise Regelung aller lebenswichtigen Prozessparameter und setzt einen neuen Standard für eine schnelle thermische Verarbeitung. Es ist auch mit einer Reihe von anspruchsvollen Diagnosen wie einem erweiterten Fehlermanagement-System und erweiterte Prozess-Parameter-Überwachung ausgestattet. MATTSON Helios verfügt auch über eine Reihe verbesserter Sicherheitsfunktionen wie offene Systemarchitektur, eingebaute Sicherheitsverriegelungen und umfassende Nothaltestellen, um jederzeit maximale Sicherheit zu gewährleisten. Insgesamt ist STEAG/MATTSON/AST Helios ein ausgezeichneter schneller thermischer Prozessor, der über fortschrittliche Technologien und modernes Design verfügt. Es ermöglicht einen verbesserten Waferdurchsatz und eine hohe Wiederholbarkeit auf kostengünstige Weise und bietet eine zuverlässige, flexible und sichere Lösung für RTP, WTL, Glühen, Oxidation, Diffusion und andere SiC-Prozessanwendungen.
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