Gebraucht STEAG / MATTSON / AST SHS 2800 #9096061 zu verkaufen

STEAG / MATTSON / AST SHS 2800
ID: 9096061
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1999
Rapid thermal processor, 8", 1999 vintage.
STEAG/MATTSON/AST SHS 2800 ist ein fortschrittlicher Rapid Thermal Processor (RTP) für die schnelle und präzise thermische Verarbeitung von Wafern und Substraten. Es ist ein modernes Werkzeug für schnelles thermisches Glühen und schnelle thermische Oxidationsprozesse. AST SHS 2800 ermöglicht eine schnelle thermische Verarbeitung in einem einheitlichen System mit präziser Steuerung der Sonnenenergiebedingungen. Jede Kammer verfügt über zwei unabhängige Temperaturzonen, die in beliebiger Kombination programmierbar sind und maximale Temperaturen von 2400 ° C erreichen können. Das einzigartige Design von STEAG SHS-2800 verhindert Kreuzkontaminationen und schränkt die Wirkung der Partikelerzeugung ein und bietet zusätzlichen Schutz für empfindliche Substrate. Das Werkzeug ist mit einer Reihe von erweiterten Diagnosefunktionen ausgestattet, so dass es Variablen wie Wafertemperatur, Gasfluss und Druck innerhalb der Kammer mit Genauigkeit und Präzision messen kann. Es ist auch mit einer Reihe von Sicherheitsfunktionen konzipiert, die potenzielle Gefahren verhindern und einen sicheren Betrieb gewährleisten. MATTSON SHS 2800 kann bis zu 200 300mm oder 400 200mm Wafer pro Stunde verarbeiten, wodurch eine schnelle Wende gewährleistet ist. Es verfügt auch über eine Single-Wafer-Dosierplattform, die eine konsistente Wafer-Erwärmung gewährleistet und thermischen Auslauf beseitigt. Darüber hinaus bietet das Werkzeug hervorragende Genauigkeit für Substrate, erfordert eine präzise Temperaturregelung und Gleichmäßigkeit. SHS 2800 Rapid Thermal Processor gewährleistet eine schnelle thermische Verarbeitung mit fortschrittlichen Diagnose- und Sicherheitsmerkmalen und gewährleistet einen sicheren und effektiven Betrieb. Es bietet eine außergewöhnliche Prozessgleichmäßigkeit bei maximalen Temperaturen von 2400 ° C und schützt vor potenziellen Gefahren. Schließlich sorgt die Single-Wafer-Dosierplattform für schnellen Durchsatz und Konsistenz der Erwärmung über das Substrat.
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