Gebraucht ULVAC RTA-0208S #9107274 zu verkaufen
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ULVAC RTA-0208S ist eine RTP-Ausrüstung (Rapid Thermal Processor), die es Anwendern ermöglicht, verschiedene Arten von Wafermaterialien in einem einzigen Abscheidungsprozess zu verarbeiten. Dieses System kombiniert Stickstoff und Halogengas, um eine schnelle thermische Verarbeitung (RTP) mit gleichmäßiger Wärmeverteilung und Präzisionstemperaturregelung zu ermöglichen. Mit einer großen 8-Zoll-Kapazität ist RTA-0208S in der Lage, Wafer in vielen Größen schnell zu bearbeiten. Diese RTP-Einheit wird mit einer Raumtemperatur im Intervall vom 20-1100°C, sowie eine Drei-Punkt-Temperaturneigungsentschädigungseinheit ausgestattet, die hilft, eine gleiche in einer Prozession gehende Temperatur zu sichern. Eines der Hauptmerkmale von ULVAC RTA-0208S ist seine Hochtemperaturfähigkeit. Es ist in der Lage, Spitzentemperaturen von über 1000 ° C zu erreichen, so dass es gut geeignet für intensive Prozesse wie schnelle thermische Glühung (RTA) und schnelle thermische Reaktion (RTR). Diese RTP-Einheit bietet auch eine flüssige Stickstoff-Kühlmaschine, die verhindert, dass Wafer überhitzen und empfindliche Elemente beschädigen. Darüber hinaus hilft ein drehbares Gaseintrittswerkzeug, Gas gleichmäßig über die Wafer zu verteilen und eine Quarzflüssigkeits-Stickstoffdichtung hilft, Stickstoff vor dem Austritt in die Kammer zu bewahren. RTA-0208S umfasst auch eine mehrstufige Programmierplattform, mit der Benutzer mehrere Aufwärm-, Halte- und Abkühlschritte erstellen und verwalten können. Diese Programmierfunktion ermöglicht es dem Anwender auch, seine thermische Verarbeitung entsprechend den verschiedenen Abscheideeigenschaften der zu bearbeitenden Wafer zu optimieren. Darüber hinaus verfügt dieses Asset über ein intuitives Touch-Panel-Display mit direkter Dateneingabe sowie ein Echtzeit-Datenanzeigemodell, das schrittweise Bedienungsanleitung bietet. Schließlich enthält ULVAC RTA-0208S ein in-line optisches Emissionsspektrometer (OES), das Schwankungen der Wafereigenschaften während des Abscheidungsprozesses überwacht. Diese Funktion stellt sicher, dass der Prozess mit optimaler Genauigkeit und Sicherheit durchgeführt wird. Darüber hinaus kann mit dem OES-Monitor eine Reihe von Parametern wie Sauerstoff- und Wasserstoffkonzentration überwacht werden. Dies trägt dazu bei, dass Wafertemperatur und Zusammensetzung in gewünschten Bereichen bleiben. Insgesamt ist RTA-0208S ein beeindruckender schneller thermischer Prozessor mit vielen nützlichen Funktionen. Seine Hochtemperaturfähigkeit, seine Flüssigstickstoff-Kühlausrüstung und seine mehrstufigen Programmierfähigkeiten machen es für verschiedene Waferbearbeitungsanwendungen gut geeignet. Darüber hinaus ist die Echtzeit-Datenanzeige und das In-Line-OES-Überwachungssystem eine ausgezeichnete Wahl für diejenigen, die die Genauigkeit und Sicherheit ihres thermischen Verarbeitungsprozesses gewährleisten möchten.
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