Gebraucht AGS MPS-150-RIE #9078689 zu verkaufen

AGS MPS-150-RIE
Hersteller
AGS
Modell
MPS-150-RIE
ID: 9078689
Advanced plasma system For Reactive Ion and Plasma Etching (RIE / PE) MPS-150 Base module: Assy, console, MPS-150 Assy, chamber, MPS-150 Assy, power distribution, MP-TCU Assy, interlocks, RIO Assy, harness, RIO/RS232 Assy, facilities, CLP08 Assy, controller, APC2014-PPLC Configuration options for RIE: Assy, electrode, RIE-150 Assy, plasma source, RF120w Assy, vacuum, ISO63, 1CG Assy, pressure control, 1T Assy, dry pump, 8cfm-plasma Assy, gas deck, 5-Channel Assy, heater jacket, wall Mass flow controller options: Assy, MFC, standard Assy, MFC, toxic Other options: Upgrade, plasma source: RF300w Upgrade, pump, dry: 70cfm-Plasma Turbo package? 70lps-Plasma Turbo package: 250lps-Plasma Turbo package: 300lps-MagLev Ion gauge KF Temperature controller: 10-35C Temperature controller: 10-60C Electrical: 208 VAC, 30 Amp, 50/60 Hz, 4 Wire, 5 Pin IEC Compressed air and nitrogen: 80-100 PSI, 1 CFM, 1/4” QC Process gas: 15 PSI, UHP, 100 sccm, 1/4” male VCR Exhaust: 50 CFM, <0.5 mmHg, KF40 Cooling water: 30-60 PSI, 1-2 GPM, 3/8” QC.
AGS MPS-150-RIE ist eine hochwertige Forschungs- und Industrieelektronenzyklotronresonanz (ECR) -Plasmaätzanlage, die auf die Anforderungen der heutigen Forschung und industriellen Anwendungen zugeschnitten ist. Dieses Modell eignet sich besonders für Dünnschichtätz- und Abscheideprozesse, die eine hohe Qualität und Genauigkeit wie Halbleiterverarbeitung, MEMS und PDTs erfordern. MPS-150-RIE hat verschiedene Eigenschaften, die es für moderne Forschung und industrielle Anwendungen geeignet machen. Das Plasma wird mit einer Hochtemperatur-ECR-Quelle erzeugt, die ein sehr effizientes und sehr präzises Werkzeug zur Steuerung von Prozessen unter präzisen Leistungsbedingungen ist. Darüber hinaus kann die ECR-Quelle in einer Vielzahl von Verschlussmodi wie Puls- und Burst-Modus betrieben werden, was eine präzise Steuerung von Ätzprozessen und eine präzise Steuerung der Abscheidungsdicken ermöglicht. Die ECR-Quelle hat auch die Möglichkeit, die benötigten Ionen für eine Vielzahl von Prozessparametern an die Oberfläche zu liefern, was eine gleichmäßige Verteilung über die Substratoberfläche ermöglicht. Das Flusssteuersystem nutzt 12 unabhängige Gaskanäle und ist mit einem hochautomatisierten Gasmixer ausgestattet, der die Steuerung der Gaskonzentration in der Prozesskammer erleichtert. Darüber hinaus ist das Gerät mit Temperatur- und Druckmeßsystemen ausgestattet, um optimale Betriebsbedingungen zu gewährleisten. Neben seiner hochpräzisen ECR-Quelle ist AGS MPS-150-RIE auch mit einer Vielzahl von Peripheriegeräten ausgestattet, um seine Fähigkeiten weiter zu verbessern. Diese Peripherieausrüstung umfasst anspruchsvolle Prozessüberwachungswerkzeuge, fortgeschrittene Plasmaeigenschaften-Messwerkzeuge und eine Reihe von Vakuum-Handhabungsgeräten wie Lastschlösser und Robotik. Die Maschine ist mit einer sehr robusten und zuverlässigen konstruktiven Konstruktion konstruiert und in der Lage, eine breite Palette von Prozessparametern zu handhaben. Das Plasmabeschränkungswerkzeug sorgt dafür, dass das Plasma gleichmäßig über die Kammer verteilt ist, um ein gleichmäßiges Ätzen zu gewährleisten. Das Ätzgut ist außerdem mit einem automatischen Endpunktdetektionsmodell ausgestattet, mit dem das Gerät den Prozess an einer vorbestimmten Stelle stoppen kann, wodurch wiederholbare Ätzergebnisse gewährleistet sind. MPS-150-RIE ist ein ideales Gerät für Forschung und industrielle Anwendungen aufgrund seiner hochpräzisen ECR-Quelle, seiner zuverlässigen und robusten Konstruktion und seines breiten Spektrums an peripheren Geräten. Dieses Modell bietet die Funktionen und die Leistung, die es Anwendern ermöglichen, einheitliche und wiederholbare Prozesse mit außergewöhnlicher Produktivität und Genauigkeit zu generieren.
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