Gebraucht AGS MPS-150-RIE #9078689 zu verkaufen
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ID: 9078689
Advanced plasma system
For Reactive Ion and Plasma Etching (RIE / PE)
MPS-150 Base module:
Assy, console, MPS-150
Assy, chamber, MPS-150
Assy, power distribution, MP-TCU
Assy, interlocks, RIO
Assy, harness, RIO/RS232
Assy, facilities, CLP08
Assy, controller, APC2014-PPLC
Configuration options for RIE:
Assy, electrode, RIE-150
Assy, plasma source, RF120w
Assy, vacuum, ISO63, 1CG
Assy, pressure control, 1T
Assy, dry pump, 8cfm-plasma
Assy, gas deck, 5-Channel
Assy, heater jacket, wall
Mass flow controller options:
Assy, MFC, standard
Assy, MFC, toxic
Other options:
Upgrade, plasma source: RF300w
Upgrade, pump, dry: 70cfm-Plasma
Turbo package? 70lps-Plasma
Turbo package: 250lps-Plasma
Turbo package: 300lps-MagLev
Ion gauge KF
Temperature controller: 10-35C
Temperature controller: 10-60C
Electrical: 208 VAC, 30 Amp, 50/60 Hz, 4 Wire, 5 Pin IEC
Compressed air and nitrogen: 80-100 PSI, 1 CFM, 1/4” QC
Process gas: 15 PSI, UHP, 100 sccm, 1/4” male VCR
Exhaust: 50 CFM, <0.5 mmHg, KF40
Cooling water: 30-60 PSI, 1-2 GPM, 3/8” QC.
AGS MPS-150-RIE ist eine hochwertige Forschungs- und Industrieelektronenzyklotronresonanz (ECR) -Plasmaätzanlage, die auf die Anforderungen der heutigen Forschung und industriellen Anwendungen zugeschnitten ist. Dieses Modell eignet sich besonders für Dünnschichtätz- und Abscheideprozesse, die eine hohe Qualität und Genauigkeit wie Halbleiterverarbeitung, MEMS und PDTs erfordern. MPS-150-RIE hat verschiedene Eigenschaften, die es für moderne Forschung und industrielle Anwendungen geeignet machen. Das Plasma wird mit einer Hochtemperatur-ECR-Quelle erzeugt, die ein sehr effizientes und sehr präzises Werkzeug zur Steuerung von Prozessen unter präzisen Leistungsbedingungen ist. Darüber hinaus kann die ECR-Quelle in einer Vielzahl von Verschlussmodi wie Puls- und Burst-Modus betrieben werden, was eine präzise Steuerung von Ätzprozessen und eine präzise Steuerung der Abscheidungsdicken ermöglicht. Die ECR-Quelle hat auch die Möglichkeit, die benötigten Ionen für eine Vielzahl von Prozessparametern an die Oberfläche zu liefern, was eine gleichmäßige Verteilung über die Substratoberfläche ermöglicht. Das Flusssteuersystem nutzt 12 unabhängige Gaskanäle und ist mit einem hochautomatisierten Gasmixer ausgestattet, der die Steuerung der Gaskonzentration in der Prozesskammer erleichtert. Darüber hinaus ist das Gerät mit Temperatur- und Druckmeßsystemen ausgestattet, um optimale Betriebsbedingungen zu gewährleisten. Neben seiner hochpräzisen ECR-Quelle ist AGS MPS-150-RIE auch mit einer Vielzahl von Peripheriegeräten ausgestattet, um seine Fähigkeiten weiter zu verbessern. Diese Peripherieausrüstung umfasst anspruchsvolle Prozessüberwachungswerkzeuge, fortgeschrittene Plasmaeigenschaften-Messwerkzeuge und eine Reihe von Vakuum-Handhabungsgeräten wie Lastschlösser und Robotik. Die Maschine ist mit einer sehr robusten und zuverlässigen konstruktiven Konstruktion konstruiert und in der Lage, eine breite Palette von Prozessparametern zu handhaben. Das Plasmabeschränkungswerkzeug sorgt dafür, dass das Plasma gleichmäßig über die Kammer verteilt ist, um ein gleichmäßiges Ätzen zu gewährleisten. Das Ätzgut ist außerdem mit einem automatischen Endpunktdetektionsmodell ausgestattet, mit dem das Gerät den Prozess an einer vorbestimmten Stelle stoppen kann, wodurch wiederholbare Ätzergebnisse gewährleistet sind. MPS-150-RIE ist ein ideales Gerät für Forschung und industrielle Anwendungen aufgrund seiner hochpräzisen ECR-Quelle, seiner zuverlässigen und robusten Konstruktion und seines breiten Spektrums an peripheren Geräten. Dieses Modell bietet die Funktionen und die Leistung, die es Anwendern ermöglichen, einheitliche und wiederholbare Prozesse mit außergewöhnlicher Produktivität und Genauigkeit zu generieren.
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