Gebraucht AGS MPS-450-RIE #9379089 zu verkaufen
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ID: 9379089
Advanced plasma system
MPS-450 Base module:
Console
Chamber
SYS-RIE Power distribution
RIO Interlocks
RIO/RS232 Harness
CLP08
APC2014-PPLC Controller
Configuration options for RIE:
Electrode
RF300w Plasma source
Vacuum: 100 mm, 1CG
Pressure control, 1T
Gas deck: 5 Channels
dry pump: 8cfm-plasma
Mass flow controller options:
MFC Standard (CF4/O2)
MFC Toxic
Toxic gaspod: 6 Channels
Miscellaneous options:
Plasma source: RF600w
Plasma source: RF1000w
Dry pump: 60cfm-Plasma
Turbo package: 240lps-Plasma
Turbo package: 650lps-Plasma
Turbo package: 500lps-MagLev
Option: Assy, ion gauge KF
Temperature controller: 10-30C
Heater jacket: Wall
Plate
quartz cover: 450 mm.
AGS MPS-450-RIE (Reactive Ion Etcher) ist eine fortschrittliche Ätzeinrichtung mit einem induktiv gekoppelten Plasmaätzverfahren (ICP), bei dem Inertgas verwendet wird, und einem Elektronenzyklotronresonanzverfahren (ECR), bei dem Mikrowellen verwendet werden. Dieser Reaktor ist für eine Vielzahl von Ätzanwendungen wie Ätzen von Durchsiliziumvias (TSV), MEMS und 3D-IC ausgelegt. Es verfügt über eine effiziente und präzise Prozesssteuerung, die den Produktionsertrag maximiert und Kosten senkt. Das System ist in der Lage, sowohl positive als auch negative Ätzarten auf der Oberfläche des Substrats abzuscheiden, indem die HF-Leistung, Gasströme und Kammerdrücke gesteuert werden. Dieses Verfahren gewährleistet eine gleichmäßige Ätztiefe und bietet eine ausgezeichnete Selektivität im Materialbereich. Das Kammerinnere ist mit einer erweiterten Edelstahlkammer für den Hochtemperaturbetrieb aufgebaut. Die Kammer ist auch mit einem in-situ thermischen Messsystem und Kryo-Kühlsystem ausgestattet, das bei der präzisen Steuerung der Substrattemperatur hilft und eine optimale Oberflächenqualität und genaue Prozesskontrolle liefert. MPS-450-RIE ist mit einem Mehrfrequenz-HF-Generator ausgestattet, der verschiedene Möglichkeiten zur Steuerung von Ätzrate und Selektivität durch Modulierung der HF-Leistung bietet. Eingebetteter leistungsstarker Computer bietet eine interaktive Steuerungsplattform, die Fehlbedienungen erkennen und verhindern kann. Außerdem werden alle statistischen Daten zur weiteren Analyse gespeichert und angezeigt. Dieser Ätzer verfügt über ein prozessorientiertes Design für die In-situ-Endpunkterkennung und den automatisierten Wafer-Sensing-Belastungsmechanismus, der Prozessfehler deutlich reduziert und die Gesamtätzleistung verbessert. Es verfügt über eine Schnellwechselladeschale zum Laden von zwei Waferbooten in einem Schritt. Es ermöglicht auch einen Remote-Betrieb über Ethernet und/oder serielle Verbindungen, die helfen, die Anforderungen der schnell wechselnden Produktionsumgebungen zu erfüllen. AGS MPS-450-RIE eignet sich für verschiedene Produktionsprozesse, die qualitativ hochwertiges Ätzen mit hohem Durchsatz erfordern. Seine Zuverlässigkeit, Effizienz und Langlebigkeit machen es zu einer idealen Wahl für industrielle Anwendungen.
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