Gebraucht AIXTRON 2400 G2 #9018984 zu verkaufen

AIXTRON 2400 G2 ist ein CVD-Reaktor für die Herstellung von Graphen, Halbleitermaterialien und anderen Nanomaterialien. Es ist ein Einwaferreaktor und arbeitet bei Temperaturen von 800 ° C bis 1300 ° C. 2400 G2 besteht aus einer Hauptkammer, die auf eine gewählte Temperatur erhitzt wird. Diese Kammer ist von einem Vakuumgefäß umgeben, das mit einer Vakuumpumpe verbunden ist. Die Kammer besteht aus zwei Reaktandengasquellen, die zusammen mit den Reaktanden und deren Vorläufern in die Kammer gepumpt werden. Innerhalb der Kammer reagieren die Reaktionspartner mit dem Substrat (zu beschichtendes Material) unter den kontrollierten Temperatur- und Druckbedingungen. AIXTRON 2400 G2 ist mit einer elektrischen Speiseausrüstung ausgestattet und verfügt über ein eingebautes Pulsed Plasma Deposition System (PPDS), wo das Material mit Plasmaenergie wachsen soll. Dadurch wird eine gleichmäßige Abscheidung des Materials erreicht. Darüber hinaus ist die Einheit in der Lage, die Abscheideraten der Reaktantgase für verschiedene Materialarten zu steuern. Die Kammer ist vollautomatisiert, mit Temperatur- und Drucksensoren, die die Gas- und Substrattemperaturen, den Druck innerhalb der Kammer und das für den Abscheidungsprozess verwendete Gasvolumen überwachen und aufrechterhalten. Die Maschine ist auch mit Sicherheitsmerkmalen wie automatisierten Absperrmechanismen und Überdruckschutz ausgelegt, um sicherzustellen, dass während der Abscheidung keine gefährlichen Ereignisse auftreten können. Schließlich ist 2400 G2 mit einem effizienten Steuerungstool ausgestattet, das dedizierte Algorithmen und grafische Benutzeroberflächen verwendet. Es verfügt über eine integrierte Datenerfassungsfunktion und kann mit verschiedenen Automatisierungsstufen betrieben werden. Darüber hinaus umfasst das Asset softwarebasierte Analysetools wie die optische Emissionsspektroskopie (OES) zur Analyse des abgeschiedenen Materials. Dies hilft, präzise und wiederholbare Ergebnisse für den Benutzer zu erzielen.