Gebraucht AIXTRON 2400G3 HT #9292253 zu verkaufen

Hersteller
AIXTRON
Modell
2400G3 HT
ID: 9292253
Weinlese: 2004
MOCVD System Equipped with (4) single thermal baths and (1) double GaN, 11x2" Hydride source configuration: NH3-1, NH3-2, SiH4-1, HCl MO Source configuration: TMGa-1, TEGa-1, TEGa-2, TMAl-1, Cp2Mg-1, TMIn-1, TMIn-2 Spare parts included 2004 vintage.
AIXTRON 2400G3 HT ist ein horizontal konfigurierter Abscheidungsreaktor für Kristallwachstumsanwendungen. Dieser Reaktor nutzt ein Hochfrequenzplasma, um eine Niederdruckumgebung für CVD-Prozesse (Chemical Vapor Deposition) zu schaffen. Dies bedeutet, dass das Quellenmaterial für die Abscheidungsreaktion in Form eines gasförmigen Dampfes mittels eines gesteuerten Strömungseinspritzvorgangs der Kammer zugeführt wird. Das HF-Plasma wird aus Elektroden erzeugt, die sich sowohl innerhalb als auch außerhalb der Reaktorkammer befinden. Mit diesem HF-Plasma wird das gasförmige Ausgangsmaterial ionisiert, was Bedingungen für ein optimales Wachstum des gewünschten Materials schafft. AIXTRON 2400 G3-HT verfügt über eine fortschrittliche Prozesssteuerungs- und Temperaturregelungstechnologie, die es Anwendern ermöglicht, Abscheidungsparameter und Prozessbedingungen genau zu steuern. Die Temperaturregelung des Reaktors kann je nach Aufzuchtmaterial auf maximal 900 ° C eingestellt werden. Der Reaktor ist mit AIXTRON patentierten Schnellscannern ausgestattet, wodurch der Anwender Prozessparameter präzise kalibrieren und den Wachstumsprozess optimieren kann. 2400 G3 HT ist ein Einzel-Wafer-Reaktor und hat eine Standardschicht-on-Layer (LOL) und eine maximale Wafergröße von 12 Zoll. Die Reaktantgase werden über zwei offene Ringe oben im Reaktorraum in die Abscheidezone eingespritzt und dann durch einen Satz Leitbleche gleichmäßig verteilt. Mit seinem großen Volumen und seinem hohen Durchsatz sorgt 2400 G3-HT für eine gleichmäßige und gleichmäßige Filmabscheidung während des gesamten Wachstumsprozesses. Neben den außergewöhnlichen technologischen Merkmalen verfügt 2400G3 HT über mehrere zusätzliche Sicherheitsmerkmale. Es wird mit einem Schicht-über-Temperatur-Kontrollsystem geliefert, das eine Kontamination des Substrats verhindert, indem eine Koaleszenz des abgeschiedenen Folienmaterials verhindert wird. Darüber hinaus ist AIXTRON 2400 G3 HT innerhalb der Reaktorkammer mit einer Inertgasatmosphäre ausgestattet, die die Bildung unerwünschter Ablagerungen weiter verhindert. Insgesamt ist AIXTRON 2400G3 HT ein hochentwickelter Abscheidungsreaktor, der sich gut für den Kristallanbau eignet. Es bietet eine optimale Temperatur- und Druckregelung und verfügt über mehrere Sicherheitsmerkmale, die Anwendern helfen, die gewünschten Ergebnisse zu erzielen, ohne das Substrat zu beeinträchtigen. AIXTRON 2400 G3-HT ist die perfekte Wahl für die Herstellung von hochreinen Kristallen mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und struktureller Integrität.
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