Gebraucht AIXTRON 2600 G3 #9270061 zu verkaufen

AIXTRON 2600 G3 ist ein High-End-gepulster Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor für die großflächige Abscheidung einer Vielzahl von dünnen Filmen. Dieser Reaktor wurde speziell mit fortschrittlichen Verarbeitungsmöglichkeiten entwickelt, um die hohen Anforderungen an die Halbleiter-, Solar- und Display-Produktion zu erfüllen. AIXTRON 2600G3 verfügt über eine vollständige Palette von automatisierten Optionen, einschließlich Präzisionsspannungsregelung, HF-Potentiometrie und einfach erweiterbare Prozessfähigkeit. Das Gerät ermöglicht die Fernbearbeitung von bis zu 30 Chargen gleichzeitig. 2600 G3 bietet auch eine fortschrittliche mehrstufige Gasströmungsregelung, eine Quarzrohr-Prozesskammer, ein verbessertes n-Typ-Gasströmungssystem und eine integrierte Überwachungseinheit. 2600G3 bietet eine Reihe von Vorteilen für die Prozess- und Fla-Produktion. Dieser Reaktor verfügt über eine breite Palette automatisierter Verarbeitungskomponenten, die eine gleichmäßige großflächige Abscheidung mit ausgezeichneter Präzision ermöglichen. Es bietet eine hohe Plasmabelastung für erhöhte Dünnschichtabscheidungsraten. Darüber hinaus bietet der Reaktor eine ausgeklügelte Temperaturregelung, die eine optimale Plasmabildung und -regelung ermöglicht. Die rationelle Gasströmungsmaschine AIXTRON 2600 G3 maximiert den Gasfluss zur präzisen Kontrolle der Abscheidung. Dieser Reaktor bietet auch ein geringes Gewicht und eine kompakte Bauweise, die sich sowohl für den Laboreinsatz als auch für industrielle Prozessanwendungen eignet. Darüber hinaus wurde AIXTRON 2600G3 speziell für den Betrieb in rauen industriellen Umgebungen entwickelt. Abschließend ist 2600 G3 ein High-End-Reaktor zur Dünnschichtabscheidung in der Halbleiter-, Solar- und Display-Industrie. Dieser Reaktor ist robust und bietet mehrere automatisierte Verarbeitungskomponenten. Es verfügt über verbesserte Gasflusssteuerung, Temperaturregelung und Leistungssteuerung. 2600G3 hat auch ein geringes Gewicht und ein kompaktes Design, um es für Labor- und industrielle Prozessanwendungen geeignet zu machen, und ist für den Betrieb in rauen Umgebungen konzipiert.