Gebraucht AIXTRON 2800 G4 HT #9037227 zu verkaufen

AIXTRON AIX 2800 G4 HT (Hot Target) ist ein CVD-Reaktor (High-Temperature Chemical Vapor Deposition) für die Verarbeitung unterschiedlichster Materialien in verschiedenen Schichten. Es ist ein geeignetes Werkzeug für Laborebene und Serienproduktion und bietet eine skalierbare Lösung für die Produktionsanforderungen bei gleichzeitiger Bereitstellung einer zuverlässigen und kostengünstigen Verarbeitungsplattform. Der Reaktor verwendet AIXTRON AIN 2900 GOTO VUV Prozesskammer, die eine Hochvakuum Glocke-Glas geformt ist. Diese Konstruktion bietet ein breites Einsatzspektrum, so dass eine Vielzahl von Materialien bei Temperaturen von bis zu 950 ° C verarbeitet werden können. Dies wird durch eine unabhängige Temperaturregelung von Substrat, Suszeptor und Gaseinspritzdüse, eine präzise Temperaturregelung und eine gleichmäßige Temperaturverteilung über den Wafer unterstützt. Die Prozesskammer ist mit einem AIXTRON CVD reaktiven Gaseinspritzsystem und einer AIXTRON Prozesssteuerungssoftware gekoppelt, was es zu einem leistungsstarken Werkzeug für die Abscheidung verschiedener Materialien macht. Das CVD-Gaseinspritzsystem in AIXTRON AIX 2800G4-HT wurde entwickelt, um die innerhalb des Prozesses verwendeten Mengen und Arten von Gasen genau zu steuern. Dadurch wird sichergestellt, dass präzise chemische Konzentrationen in die Kammer eingebracht werden, was einen kontrollierten und wiederholbaren Abscheidungsprozess begünstigt. AIX 2800G4 HT ist mit AIXTRON PECVD VUV/eV Steuerung ausgestattet, die eine vollständige Kontrolle der Abscheidung und des Endpunktes des Prozesses ermöglicht. Mit Hilfe der Prozesssteuerungssoftware können Abscheidezeiten, Temperaturen und Geschwindigkeiten eingestellt und auch die Gleichmäßigkeit der abgeschiedenen Schicht auf dem Wafer überwacht werden. Dies ermöglicht konsistente, wiederholbare Prozessergebnisse und minimiert Fehler. AIXTRON AIX 2800 G 4 HT ist ein idealer Abscheidungsreaktor für die Verarbeitung verschiedener Materialien und eignet sich für mehrere Anwendungen wie Dünnschichttransistoren und Solarzellen. Es ist auch in der Lage, Tandemabscheidungsprozesse durchzuführen, wodurch mehrere Schichten in einem einzigen Verarbeitungszyklus abgeschieden werden können, wodurch der Durchsatz und die Effizienz erhöht werden.