Gebraucht AIXTRON AIX 200/4 RF #9195285 zu verkaufen

AIXTRON AIX 200/4 RF ist ein Prozeßreaktor, der speziell für die Herstellung von Dünnschichten mit nahezu Nanometer ausgelegt ist. Dieser Reaktor ist in der Industrie weit verbreitet, um eine Vielzahl von Materialien wie Metalle, Halbleiter und andere Technologien für dünne Filme herzustellen. Es weist eine 3-achsige Konfiguration mit einer Elektrodenplattform, einer separaten Substratebene und einer Reaktionskammer auf. Die Elektrodenplattform in AIXTRON AIX 200/4 RF verfügt über eine HF-Quelle mit Frequenzübertragungsfunktionen. Dies ermöglicht einen höheren Durchsatz und eine verbesserte Produkteinheitlichkeit. Zusätzlich kann das Elektrodement sowohl in Frequenz- als auch in Leistungswerten leicht eingestellt werden, um den Plasmaemissionsprozess zu optimieren. Die Substratebene ist ebenfalls einstellbar, so dass Benutzer die Position des Substrats in der Reaktionskammer manipulieren können. AIXTRON AIX 200/4 HF-Reaktor kann auch für eine Vielzahl von Konfigurationen programmiert werden. Mit einer maximalen Arbeitstemperatur von 1600 ° C kann diese Kammer für Prozesse wie Sputterabscheidung, Waferbindung, Dünnschichtwachstum und Planarisierung verwendet werden. Zusätzlich ist dieser Reaktor mit einem optischen Hochleistungspyrometer zur Temperaturregelung ausgestattet. So können Anwender ein präzises, homogenes Wachstum dünner Filme erreichen. AIXTRON AIX 200/4 RF ist auch mit einer Reihe von Betriebsgasen kompatibel. Dazu gehören Argon, Krypton, Stickstoff und Sauerstoff. Als solcher kann der Reaktor auf eine Vielzahl von Bedürfnissen zugeschnitten werden, wodurch optimale Reaktionsbedingungen und eine hervorragende Folienqualität erreicht werden. Dieser Reaktor ist auch mit einem Gehäuse ausgestattet, das mit einem speziellen Entlüftungssystem für eine überlegene Temperatur-, Druck- und Spannungsregelung ausgelegt ist. Neben seiner Flexibilität in Bezug auf den Betrieb ist AIXTRON AIX 200/4 RF einfach zu warten und leicht zu überwachen und zu beheben. Mit seinem fortschrittlichen digitalen Steuerungs- und Diagnosesystem ist dieser Reaktor in der Lage, Echtzeit-Feedback bezüglich seiner Leistung zu liefern. Darüber hinaus verfügt dieser Reaktor über ein eingebautes Speichersystem, das bis zu 99 vorgegebene Prozessrezepte speichert, so dass Benutzer den gewünschten Prozess schnell zurückrufen und wieder aufnehmen können. Insgesamt bietet der AIXTRON AIX 200/4RF Reaktor eine ideale Kombination aus Flexibilität, Leistung und Zuverlässigkeit. Mit seinen programmierbaren Betriebsarten und umfassenden Überwachungs- und Diagnosefunktionen ermöglicht dieser Reaktor Anwendern die erfolgreiche Produktion von Dünnschichten mit nahezu Nanometern mit Präzision und Genauigkeit in einer Reihe von industriellen Anwendungen.