Gebraucht AIXTRON AIX 200 #9359469 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX 200
ID: 9359469
MOCVD System, 2" RF Coil heater With FILMETRICS in-situ reflectometry system GaN and Water-cooled quartz reactor With inner quartz liner, 2" SiC Coated graphite susceptor: GaN, AlN, InGaN, AlGaN Gas foil rotation MO sources: (2) TMGa, TEGa, TMIn, TMAl, Cp2Mg (6 MO Channels) (3) Gas precursor lines and NH3 H2 and N2 Carrier gases Spare parts included.
AIXTRON AIX 200 ist ein Multi-Wafer Batch-Abscheidungsgerät, das für das Wachstum von qualitativ hochwertigen kristallinen Materialschichten auf verschiedenen Substraten entwickelt wurde. Dieses System ist in der Lage, hochauflösende und qualitativ hochwertige Schichten bis 200 mm Durchmesser zu erzeugen. Es wurde entwickelt, um Material auf bis zu acht Substraten in kleinen Chargen abzulegen, was es zu einer idealen Wahl für Prototypen und Forschungszwecke macht. AIX 200 verfügt über eine einzonige planare Magnetron-Sputtereinheit mit Standard-Silizium-Zielquellen, die das Wachstum von Materialien wie Silizium, Siliziumoxid und Siliziumnitrid ermöglicht. Es bietet ein hohes Maß an Automatisierung und Benutzerfreundlichkeit und ermöglicht eine präzise Kontrolle der Schichtabscheidungsparameter wie Dicke, Kornstruktur und Gleichmäßigkeit der Topographie. Die Maschine ist auch mit einem mehrwelligen optischen Monitor und einem pH/Dichte/Thermo-Messwerkzeug ausgestattet, mit dem der Benutzer die Qualität der Schichten während des gesamten Abscheidungsprozesses überwachen kann. AIXTRON AIX 200 ist mit einer Reihe von Steuerungssystemen ausgestattet, einschließlich Gleichstrom (DC) -Stromversorgung, Gleichspannungsvorspannung und Heiz-/Kühlsysteme. Dies ermöglicht eine präzise Temperaturregelung, die eine hervorragende Schichtgleichförmigkeit und gleichbleibende Qualität des Schichtwachstums gewährleistet. AIX 200 verfügt auch über eine erweiterte Druckkontrolle, die es Anwendern ermöglicht, den Gaszustrom während der Abscheidung zu regulieren und eine präzise Kontrolle über die gewünschte Reaktion zu erzielen. AIXTRON AIX 200 verfügt auch über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, die einen sicheren Betrieb der Anlage gewährleisten. Eine Reihe von externen Sicherheitsmerkmalen sind enthalten, wie explosionsgeschützte Dichtungen, sowie ein Satz integrierter Werkzeuge zur Überwachung, Steuerung und Sicherung des Modells. Darüber hinaus verfügt AIX 200 über eine integrierte Überwachungsausrüstung, die eine sichere Umgebung für den Personalbetrieb gewährleistet. Insgesamt bietet AIXTRON AIX 200 eine zuverlässige, kostengünstige Lösung für das Wachstum von qualitativ hochwertigen kristallinen Materialschichten auf verschiedenen Substraten. Es ist in der Lage, hochauflösende und qualitativ hochwertige Schichten mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm herzustellen, was es ideal für Prototypen und Forschungszwecke macht. Es ist auch mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, die eine sichere Umgebung für den Personalbetrieb gewährleisten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor