Gebraucht AIXTRON AIX 2000 #151220 zu verkaufen

AIXTRON AIX 2000 ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der jetzt in einer Reihe von Halbleiterherstellungs- und Forschungslabors für Hochleistungsforschung und -entwicklung eingesetzt wird. Dieser Reaktor basiert auf einem dynamisch ausgewogenen Glockenkonzept und verfügt über ein einzigartiges dreifach-kaltes Wanddesign, das sich bei der Reduzierung der Partikelerzeugung als sehr effektiv erwiesen hat. Darüber hinaus ist dieses Gerät mit einem fortschrittlichen Steuerungssystem ausgestattet, das eine höhere Präzision bei Prozessen wie Graphen, GaAs MEMS und CVD-Diamantabscheidung ermöglicht. AIX 2000 wurde auch entwickelt, um eine lange effektive Lebensdauer bei minimalem Wartungsaufwand zu ermöglichen. Es hat eine große Quarzrohrkammer, die aus Materialien besteht, die für die Halbleiterabscheidung optimiert sind, was hilft, eine stabile und wiederholbare Qualität der Ergebnisse über eine Vielzahl von Prozessbedingungen zu gewährleisten. Die Temperatur des Reaktors kann je nach Anwendung automatisch eingestellt werden, und die Verwendung eines unabhängigen Heizkopfes ermöglicht die gleichzeitige Einstellung von Gasdurchfluss, Verarbeitungsdruck und Wafertemperatur. Darüber hinaus ist dieses Gerät auch mit einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, die die Risiken potenzieller Gefahren minimieren sollen. Zum Beispiel nimmt AIXTRON AIX 2000 Fernüberwachungs- und Steuerungstechnologien an, um geeignete Sicherheitsparameter in der Reaktorkammer zu gewährleisten. Es verfügt auch über eine speziell konstruierte Druckentlastungsmaschine, die Überdruck aus der Kammer löst. Die Sensor- und Steuerungstechnologien tragen zudem dazu bei, jederzeit optimale Verarbeitungsstufen zu erhalten. Neben seiner technologischen Exzellenz bietet AIX 2000 dem Anwender eine Vielzahl an komfortablen Funktionen. Die eingebauten automatischen Durchführungen vereinfachen das Be- und Entladen der Wafer und das integrierte RFID-Tool ermöglicht eine schnelle Identifizierung von Wafern vor Prozessbeginn. Die automatisierte Gasreinigung hilft, die höchste Sauberkeit in der Kammer zu gewährleisten, während die selbstlernenden KI-basierten Steuerungsalgorithmen bei der Optimierung sowohl der Geschwindigkeit als auch der Gleichmäßigkeit helfen. Alles in allem ist AIXTRON AIX 2000 ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der Anwendern das Beste aus beiden Welten bietet: eine unübertroffene Kontrolle des Prozesses und hervorragende Ergebnisse. Dank der fortschrittlichen Eigenschaften und der hohen Leistung dieses Modells wird es jetzt für die Halbleiterforschung und -herstellung in einer Reihe von Laboren auf der ganzen Welt verwendet.