Gebraucht AIXTRON AIX 2000 #9376992 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX 2000
ID: 9376992
Weinlese: 1997
System Does not include NESLAB chillers Process: GaAs / InP PC Part number: 40040471 Planetary disk 5" x 3" d238 H=12 Susceptors CAD A2 UT218 Graphite Part number: 40040227 Rotation susceptor CAD Al UT 234 Uncoated ¢246 x 28 Part number: 40040243 (5) Disks, 2"-3" Uncoated ¢84 x 5 Susceptor CAD A4 Graphite reinst 1997 vintage.
AIXTRON AIX 2000 Reaktor ist eine fortschrittliche chemische Dampfabscheidung Ausrüstung, die für den Anbau von dünnen Schichten verwendet wird. Es handelt sich um ein einkammerndes, horizontales Rohrofensystem, das mit Niedertemperaturreaktionen dünne Filme auf einem Substrat abscheidet. AIX 2000 verfügt über ein integriertes Quarzrohr sowie interne und externe Heizelemente. AIXTRON AIX 2000 ist mit einer pneumatisch abgedichteten Tür ausgestattet, die es den Prozessgasen ermöglicht, in das evakuierte Ofenrohr einzudringen und die Physik des Prozesses verhindert das Eindringen von Umgebungsluft. AIX 2000 verfügt über eine Vielzahl von verfügbaren Prozesssteuerungsfunktionen, die es ermöglichen, für viele Ablagerungsanwendungen hochgradig anpassungsfähig zu sein. Es enthält eine integrierte automatisierte Prozesssteuerung, die die Abscheiderate und Temperatur im Ofenrohr genau steuern kann. Es verwendet auch eine Gasmanagementmaschine, die eine unabhängige Steuerung der Gaszusammensetzung und des Durchflusses sowie eine Druckregelung und -überwachung ermöglicht. AIXTRON AIX 2000 ist für eine hoch kontrollierbare, wiederholbare und zuverlässige Dünnschichtabscheidungsverarbeitung konzipiert. Es verfügt über ein Zweizonen-Heizwerkzeug, das erwärmte Proben- und Substratoberflächen für gleichmäßige Niedertemperaturabscheidungsreaktionen ermöglicht. Es bietet auch eine Niedertemperatur-Reaktionsumgebung, die Schäden am Substrat oder Proben während des thermischen Zyklus beseitigt. Die Prozesskammer von AIX 2000 verfügt über eine eingebaute Gasmanagementanlage und ein fortschrittliches Kühlmodell. Dies ermöglicht eine Vielzahl hochwertiger Dünnschichtanwendungen mit präziser und kontrollierbarer Abscheiderate. AIXTRON AIX 2000 Reaktor verfügt über eine eingebaute optische Ausrüstung, die es dem Bediener ermöglicht, den Wachstumsfortschritt zu überwachen und auch die Abscheidungsqualität zu überwachen. Der AIX 2000 Reaktor ist ein effizientes, kostengünstiges Werkzeug zur Abscheidung optisch aktiver Metalloxid-Dünnschichten. Es kann für verschiedene Arten von dünnschichtbezogenen Forschungsprojekten verwendet werden, wie LED-Herstellung, Solarzellenfertigung, optische Geräte, Photovoltaikzellen und optoelektronische Filme. Darüber hinaus ist der AIXTRON AIX 2000 Reaktor mit einer Vielzahl von Prozesskontrollfunktionen ausgestattet, einschließlich Druckregelung, Temperaturregelung, Gaszusammensetzungsregelung und Gasdurchflussregelung. Insgesamt ist der AIX 2000 Reaktor ein zuverlässiges, kostengünstiges Werkzeug zur Abscheidung einer Vielzahl hochwertiger Dünnschichten. Es bietet eine Vielzahl fortschrittlicher Prozesssteuerungsfunktionen und ein integriertes Gassteuerungssystem, um das Risiko von Filmkontaminationen erheblich zu reduzieren. Darüber hinaus verfügt es über eine fortschrittliche Kühleinheit und eine integrierte optische Maschine zur Überwachung der Filmabscheidungsqualität und -homogenität.
Es liegen noch keine Bewertungen vor