Gebraucht AIXTRON AIX 2400 G3 HT-L #293651622 zu verkaufen

AIXTRON AIX 2400 G3 HT-L ist eine äußerst vielseitige Hybrid Tool (HT) Gerätelösung, die Anwendern eine einzigartige Kombination aus exzellenter Hardware und anspruchsvoller Software bietet. Das System kann für verschiedene Halbleiter-Epitaxie-Prozesse wie physikalische Dampfabscheidung (PVD) und chemische Dampfabscheidung (CVD) verwendet werden. Mit seinem fortschrittlichen Design ist der AIX 2400 G3 CT-L auf höhere Zuverlässigkeit und verbesserte Produktivitätsleistung ausgelegt. AIX 2400 G3 HT-L ist ein bewährtes Universum für alle III-V-Halbleiter, Silizium Germanium und Verbundhalbleitermaterialien sowie Silizium. Die hohe Gleichmäßigkeit und die verbesserte Durchsatzleistung machen es ideal für die heutigen Anforderungen an die Halbleiterepitaxie. Das Gerät unterstützt auch die Abscheidung mit hohen Abscheideraten und wiederholten Aufzügen und ersetzt Substratwafer. AIXTRON AIX 2400 G3 HT-L ist mit einer anspruchsvollen KI-basierten Steuerungsmaschine ausgestattet, mit der Benutzer eine Vielzahl wiederholbarer und programmierbarer Sequenzen einrichten können, um die Prozessparameter zu steuern. Sowie die Fähigkeit, sowohl im kontinuierlichen als auch im Schrittmodus zu arbeiten. Dieses Hybridmodell behandelt eine Vielzahl von Materialien wie III-V-Halbleiter, Silizium Germanium und Verbundhalbleitermaterialien sowie Silizium. AIX 2400 G3 HT-L enthält einen einzigartigen Multisource-Halter, der bis zu 6 Quellen ermöglicht, die in einer präzisen, schrittweisen Reihenfolge gesteuert werden können. Dies ermöglicht zudem schnellere Geräteherstellungszeiten und eine verbesserte Gleichmäßigkeit auf Waferebene. Die Version des Werkzeugs bietet auch eine integrierte Rapid Thermal Processing (RTP) Einheit für schnelle thermische Glühung des Halbleitermaterials. Darüber hinaus unterstützt AIXTRON AIX 2400 G3 HT-L modernste Inline- und Ex-situ-Messtechnik. Die in situ Messtechnik-Sonden sind effizient bei der Bestimmung der Qualität der Filmabscheidung, Dicke, Kristallinität und Oberflächenrauhigkeit. Dies ermöglicht eine hohe Prozesskontrolle, Gleichmäßigkeit und erhöhte Durchsatzleistungen. AIX 2400 G3 HT-L ist die optimale Wahl für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente und eine hervorragende Alternative zu bestehenden Systemen. Es bietet zuverlässige und schnelle Operationen, effiziente Prozesssteuerung und ausgezeichnete Prozessqualität.