Gebraucht AIXTRON AIX 2400 G3 HT #9293775 zu verkaufen

AIXTRON AIX 2400 G3 HT ist ein Hochtemperatur (HT) -Cluster-Tool reaktiver Ionenstrahlverdampfer (RIBE), der für die Herstellung komplexer Schichten aus fortschrittlichen elektronischen Materialien entwickelt wurde. Es ist die neueste Ergänzung der AIXTRON Cluster-Tool-Serie und ist in der Lage, die fortschrittlichsten architektonischen Merkmale bereitzustellen, die für die Herstellung von Hochleistungs-, Hochtemperatur (HT) -Dünnfolien und anderen mikrostrukturierten Materialien erforderlich sind. AIXTRON AIX 2400 G3/HT besteht aus einer Abscheidekammer, einer Plasmageneratoranordnung und einem Substratbearbeitungsbereich, die alle in einem großen, abgeschirmten und luftgekühlten Edelstahlgehäuse eingeschlossen sind. Dieses System ist in der Lage, fortschrittliche Abscheidungsrezepte über den Temperaturbereich von 50-900 C und Abscheideraten von bis zu 7nm/min zu produzieren. Es umfasst auch erweiterte Multi-Sensor-Prozesssteuergeräte sowie Echtzeit-Wafer-Tracking-Funktionen. Die Abscheidekammer ist in einer Vakuumkammer eingeschlossen und mit Hochtemperatur-HF-Plasmageneratoren ausgestattet, die zur Vorbehandlung und Erwärmung der Substrate vor der Abscheidung dienen. Die isotherme Dünnschichtverarbeitung von AIX 2400 G3 HT ermöglicht die Herstellung komplexer und mehrschichtiger Strukturen. Die computergesteuerte Datenerfassungseinheit der Kammer ermöglicht eine präzise Maschinendatenhandhabung, eine kontinuierliche Prozessüberwachung und ermöglicht maßgeschneiderte Werkzeugparameteranpassungen zur Optimierung des Prozessflusses. Die Plasmageneratoranordnung besteht aus einer induktiv gekoppelten HF-Quelle, wobei die Ausgangsleistung bis zu 700 Watt einstellbar ist. Seine Gaszuführöffnungen sind für die gewünschten Strömungen und Drücke direkt mit den Gaspaneelen verbunden. Der Substratbearbeitungsbereich ist mit zwei Wafer-Abstandsstufen ausgestattet, die eine für die Tieftemperaturverarbeitung und die andere für die Hochtemperaturverarbeitung. Eine Wafer-Klemmvorrichtung gewährleistet eine genaue und wiederholbare Abscheidung von Hochtemperaturmaterialien auf den Substraten. Der Substratbearbeitungsbereich ist außerdem mit einem Lasersensor-Modell für hohe Endpunktgenauigkeit und Echtzeit-Substratverfolgung ausgestattet. Zusammenfassend ist AIX 2400 G3/HT eine robuste und zuverlässige Cluster-Tool reaktive Ionenstrahl-Verdampfer-Ausrüstung, die für die Herstellung von Hochtemperatur-Dünnschichten und anderen mikrostrukturierten Materialien entwickelt wurde. Seine computergesteuerte Abscheidekammer, Plasmageneratoranordnung und Substratverarbeitungsbereich bieten eine effiziente und kostengünstige Lösung für die Herstellung komplexer Schichten aus fortschrittlichen elektronischen Materialien.