Gebraucht AIXTRON AIX 2400 G3 HT #9352601 zu verkaufen

AIXTRON AIX 2400 G3 HT ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der speziell für die Herstellung hocheffizienter Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Es ist ein hochentwickeltes System, das in der Lage ist, streng kontrollierte und gleichmäßige Abscheidungsprozesse mit überlegener Folienqualität durchzuführen. AIXTRON AIX 2400 G3/HT verfügt über einen großen Prozessraum, der gleichzeitig bis zu vier 4 "-Wafer aufnehmen kann. Die Kammer wurde entworfen, um die Gleichmäßigkeit über die abgeschiedenen Scheiben mit effektiver Gaszirkulation und optimaler Wärmedämmung zu erleichtern. Der Ausgang von AIX 2400 G3 HT ist extrem gleichmäßig mit einer hohen Reproduzierbarkeit über mehrere Wafer. AIX 2400 G3/HT ist mit einem leistungsstarken Heaters Adaptive Control System (HACS) zur präzisen Temperaturregelung in der gesamten Kammer ausgestattet. Dieses Merkmal gewährleistet die Gleichmäßigkeit der Abscheidebedingungen sowie eine stabile Stickstoff/Sauerstoff (N/O) Selektivität über die Waferoberfläche. Sie sorgt auch dafür, dass die Temperaturen für einen konsistenten Abscheideprozess minimal bleiben. AIXTRON AIX 2400 G3 HT verwendet fortschrittliche Prozesskontrolltechniken, um den gesamten Prozess zu überwachen und zu regeln. Dies beinhaltet Feedback-Funktionen, die auf sich ändernde Parameter in Echtzeit für eine genaue Kontrolle reagieren. Diese Techniken werden mit intelligenten Software-Algorithmen und leistungsstarken Verifikationswerkzeugen kombiniert, um äußerst zuverlässige und reproduzierbare Ergebnisse zu erzielen. AIXTRON AIX 2400 G3/HT verfügt über eine Multi-Source-Heizoption für überlegene Flexibilität. Dadurch kann je nach gewünschter Leistung entweder eine einzelne Quelle oder ein Mehrquellenheizungsaufbau gewählt werden. Dieses Feature verbessert die Fähigkeit des Systems, Filme von konsistenter Qualität zu produzieren und bietet dem Benutzer gleichzeitig die Möglichkeit, den Prozess an seine spezifischen Anforderungen anzupassen. Das thermische CVD-Verfahren nach AIX 2400 G3 HT ist äußerst effizient und flexibel, so dass eine Vielzahl von Materialien abgeschieden werden können. Dazu gehören III-V-Halbleitermaterialien wie Galliumarsenid (GaAs) und Galliumnitrid (GaN) sowie Oxidmaterialien wie Galliumoxid (Ga2O3). Dies gibt Anwendern die Flexibilität, ihr Gerät für ihren spezifischen Zweck maßgeschneidert zu gestalten. Zusammenfassend ist AIX 2400 G3/HT ein hochentwickelter und zuverlässiger thermischer CVD-Reaktor, der auf die effiziente und qualitativ hochwertige Abscheidung unterschiedlichster Materialien ausgelegt ist. Es verfügt über ein leistungsstarkes HACS für optimale Temperaturregelung, präzise Prozesssteuerung und Multi-Source-Heizung für überlegene Flexibilität. Dadurch werden hochwertige, hoch reproduzierbare Folien mit Gleichmäßigkeit über mehrere Wafer hergestellt.