Gebraucht AIXTRON AIX 2400 G3 HT #9352630 zu verkaufen

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Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX 2400 G3 HT
ID: 9352630
Weinlese: 2005
MOCVD System 2005 vintage.
AIXTRON AIX 2400 G3 HT ist eine Hochdurchsatz-Reaktoranlage, die für industrielle Halbleiteranwendungen entwickelt wurde, wie sie in der Elektronik- und Erneuerbare-Energien-Industrie anzutreffen sind. Sein hochentwickeltes Design zeichnet sich durch hohe Temperaturgleichmäßigkeit in der gesamten Kammer und einen modularen Aufbau für eine einfache Wartung aus. Dieses metall-organische chemische Dampfabscheidungssystem (MOCVD) bietet folgende Merkmale: Hocheffiziente Gaseinspritzung: AIXTRON AIX 2400 G3/HT verwendet eine fortschrittliche Gaseinspritzeinheit, um reaktive Materialien schnell und präzise in die Abscheidekammer einzuführen. Diese Maschine ermöglicht auch die gleichzeitige Verwendung mehrerer Substanzen für eine verbesserte Abscheideeffizienz. Hohe Temperatureffizienz: Dieser Reaktor ist für Temperaturen bis zu 1100 ° C ausgelegt und ermöglicht eine schnellere und gleichmäßigere Abscheidung von Dünnschichtmaterialien wie einwandigen Kohlenstoff-Nanoröhren, Galliumnitrid und Hafniumnitrid. Optimales Dotierstoffmanagement: AIX 2400 G3 HT bietet einheitliche Druck- und Temperaturprofile, die ein präzises Dotierstoffmanagement ermöglichen. Dieses Tool bietet auch eine Reihe von Dotierstoffquellen, was zu einer erhöhten Effizienz und höheren Erträgen führt. Robustes Zubehörpaket: AIX 2400 G3/HT kommt mit einer Reihe von Komponenten und Verbrauchsmaterialien, wie Auspuffkomponenten, Rollläden, Tiegel, Klingen, Spannfutter und Pumpen. Dies erleichtert den Kunden den Aufbau eines effizienten, auf ihre Bedürfnisse zugeschnittenen Abscheideprozesses. Modularer Aufbau für die Wartung: AIXTRON AIX 2400 G3 HT nimmt einen modularen Aufbau für einfache Wartung und Upgrades an. Dies verbessert auch die Aktualisierbarkeit von Anlagen und hilft, Ausfallzeiten zu reduzieren. Dieses fortschrittliche industrielle Reaktormodell von AIXTRON ist die perfekte Lösung für Unternehmen, die eine zuverlässige und effiziente Möglichkeit suchen, dünne Filme und andere Materialien in großem Maßstab abzuscheiden. Es bietet eine hohe Gleichmäßigkeit, effiziente Gaseinspritzung, optimales Dotierstoffmanagement und eine Reihe von Komponenten und Verbrauchsmaterialien. Daher ist es die ideale Wahl für Halbleiter, erneuerbare Energien und andere Industrien, die hohe Durchsatzabscheidungsprozesse erfordern.
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