Gebraucht AIXTRON AIX 2400 G3 #9194776 zu verkaufen

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Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX 2400 G3
ID: 9194776
Weinlese: 1999
InP Reactor 11x2” (2) AsH3 PH3 SiH4 H2Se (2) CCl4 HCl (2) TMGa (3) TMIn (2 with Epison III) TMAl DEZn (2) H2 Pd cell purifiers NESLAB Chiller 1999 vintage.
AIXTRON AIX 2400 G3 ist ein Hochleistungs-geschlossenes Feld Metall-organische chemische Dampfabscheidung (MOCVD) Reaktor entwickelt, um die Bedürfnisse der verschiedenen anspruchsvollen industriellen Materialien und Geräte Forschung Anwendungsbereiche zu erfüllen. Dieser hochmoderne Reaktor ist ein vielseitiges Gerät, das reaktive Gasströme in einer versiegelten Quarzrohrumgebung bietet und extrem hohe Wachstumsrate und Qualität für ein breites Spektrum an Materialien wie GaAs, GaN, InGaN, AlGaAs, InA, AlG AIXTRON AIX 2400 G 3 verfügt über ein robustes Substratheizsystem, das eine präzise Temperaturregelung über einen Bereich von Wachstumstemperaturen von Raumtemperatur bis 1.100 ° C gewährleistet. Die proprietäre Wafer-Flip-Technologie verbessert die Gleichmäßigkeitsleistung und den Durchsatz erheblich und bietet sowohl Ein- als auch Mehrfachwafer-Verarbeitungsfunktionen. Darüber hinaus ermöglicht eine Siebenzonen-Tiegeleinheit eine effiziente und präzise Prozesssteuerung auch für die komplexesten Materialien. Zudem bietet AIX 2400 G3 durch sein hochmodernes Kammerdesign höchste Zuverlässigkeit und Leistung. Seine hocheffiziente Plasmaquelle bietet überlegene Leistung für alle reaktiven Gasarten, während seine beweglichen Massen und Keramikdichtungen eine ausgezeichnete Langzeitkammerstabilität bieten. Darüber hinaus verfügt AIX 2400 G 3 über erweiterte Sicherheitsfunktionen, einschließlich automatisierter Prozessparameterüberwachung und Notfallsperren. Dieser fortschrittliche Reaktor bietet auch eine ideale Plattform für das Wachstum von Breitbandhalbleitern wie Galliumnitrid (GaN) und Aluminiumgalliumnitrid (AlGaN). Mit den neuesten Fortschritten in der patentierten Wafer-Flip-Technologie bietet AIXTRON AIX 2400 G3 ein hochwertiges, einheitliches GaN- und AlGaN-Wachstum. Darüber hinaus ermöglichen die Plasmaquelle, die Siebenzonentiegelmaschine und das Abscheidewerkzeug eine präzise Steuerung von Reaktanden, Temperatur und Druck für die Herstellung optischer, elektronischer und optoelektronischer Geräte. AIXTRON AIX 2400 G 3 bietet Anwendern höchste Leistung, Zuverlässigkeit und Kontrolle und ist damit eine ideale Wahl für High-End-Materialien und Geräteforschung in einer Vielzahl von Branchen.
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