Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9171480 zu verkaufen

Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX 2800 G4 HT
ID: 9171480
Wafergröße: 4"-6"
Weinlese: 2009
MOCVD System, 4"-6" Process: GaN 2009 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT ist ein Hochdurchsatz-Einwafer-Planetenreaktor für hochtemperaturkatalytische Prozesse. Es ist für die thermisch verbesserte Abscheidung einer breiten Palette von Dünnschichtmaterialien im Zusammenhang mit Leistungselektronik, Optoelektronik, VLSI, MEMS und Mikrosystemen konzipiert. AIXTRON AIX 2800G4-HT basiert auf einer robusten, wärmerohrgekühlten, senkrechten Konfiguration für eine hocheffiziente, gleichmäßige und reproduzierbare Abscheidung hochtemperaturfester, feuerfester Materialien wie Metallsilizide und Nitride. Das Gerät verfügt über eine große Prozesszone, die Wafer mit einem Durchmesser von bis zu zwölf Zoll aufnehmen kann. Die Prozesskammerkonstruktion von AIX 2800G4 HT basiert auf dem bewährten Prinzip einer wärmerohrgekühlten Einwafer-Planetengeometrie. Dieses Design bietet eine optimale thermische Balance zwischen Hot Spots und kalten Bereichen, eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit von Foliendicke und Dichte. AIX 2800 G 4 HT nutzt auch eine innovative Zugangskammer zusammen mit einer einzigartigen Gasabschirmungstechnologie. Diese Zugangskammer ermöglicht ein effizientes Be-/Entladen von Wafern und bietet eine saubere Umgebung für die Substratverarbeitung. AIXTRON AIX 2800G4 HT verfügt über ein Hochdurchsatz-Selbstpulssystem, das eine einwandfreie Herstellung von Folien gewährleistet und Wafer-zu-Wafer-Variationen und Partikelerosion eliminiert. Das Gerät verfügt auch über eine integrierte, intelligente Maschinensteuerung und Software, die die Sicherheit des Benutzers erhöht und gleichzeitig Abscheidungsparameter optimiert. Die integrierte Rezepterstellung und Steuerungssoftware ermöglicht es Anwendern, mit wenigen einfachen Tastenanschlägen die optimalen Abscheideparameter für bestimmte Materialien und Prozesse einfach auszuwählen. AIX 2800 G4 HT wurde entwickelt, um eine minimale Wartung und ausgezeichnete Betriebssicherheit zu gewährleisten. Es verfügt über ein integriertes Gasförderwerkzeug, das die Installations- und Wartungsprozesse für Prozessgase automatisiert. Darüber hinaus gewährleistet eine fortschrittliche In-Process-Partikelüberwachung eine hochwertige Beschichtung von Filmen, indem Partikel eliminiert werden, die die Leistung beeinträchtigen können. Abschließend ist AIXTRON AIX 2800 G 4 HT ein effektiver und effizienter Einwafer-Planetenreaktor mit hohem Durchsatz, ideal für die thermisch verbesserte Abscheidung einer Vielzahl von Dünnschichtmaterialien. Das Modell ist mit einer Vielzahl von Funktionen und Technologien ausgestattet, die eine optimale thermische Balance, Gleichmäßigkeit der Foliendicke, zuverlässigen Betrieb und minimale Wartung gewährleisten.
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