Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9226196 zu verkaufen

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Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX 2800 G4 HT
ID: 9226196
Wafergröße: 2"-4"
Weinlese: 2010
MOCVD System, 2"-4" GaN Base In-situ tool ES-A70 Dry pump Size: 11"x4" Manuals Gases: Gas / Source / Push NH3_1 / 23000 / 500 NH3_2 / 23000 / 500 SiH4_l / 50 / 100 SiH4_2 / - / - TMGa / 1000 / 1000 TMAI / 500 / 500 Cp2Mg / 1000 / 500 TMIn / 1000 / 500 TEGa / 1000 / 500 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT ist ein Hochtemperatur-chemischer Dampfabscheidungsreaktor, der schnelle thermische Verarbeitung (RTP) und Mehrzonen-Heiztechnologie verwendet. Diese fortschrittliche Technologie wurde entwickelt, um dünne Filme in wiederholbarer und zuverlässiger Weise auf Substraten abzuscheiden. Das RTP ermöglicht eine effiziente und gleichmäßige Erwärmung der Substrat- und Reaktorkammer durch Verwendung mehrerer Heizelemente und einer Vielzahl von Gasen. AIXTRON AIX 2800G4-HT bietet eine geringe Fehlerbearbeitung mit guter thermischer Gleichmäßigkeit und Kontrolle, ideal für Anwendungen wie III-V und Siliziumphotonik. AIX 2800G4 HT Reaktor ist eine hochgradig anpassbare Plattform, die für bestimmte Prozessbedingungen wie Temperatur, Druck und Einspritzrate konfiguriert werden kann. Sein produktionstaugliches Design nutzt eine verteilte Mehrzonenheizung mit unabhängiger thermischer Steuerung über das gesamte Substrat. Diese Ausgestaltung ermöglicht eine präzise Steuerung der Abscheiderate, gleichmäßiger Oberflächenbeschichtungen und Dünnschichteigenschaften. AIX 2800 G4 HT Reaktor verwendet verbesserte Vorläufer, um einkristalline Schichten mit ausgezeichneter Oberflächendeckung zu schaffen. Dieser Reaktor unterstützt auch die Prozesssteuerung, die eine automatisierte und überwachte Abscheidung der gewünschten Materialien auf Substraten ermöglicht. Die hohe Selektivität dieses Reaktors sorgt für saubere Folien und Merkmale, mit ausgezeichneter Oberflächenplanität und reduzierter Randwulstbildung. AIXTRON AIX 2800 G 4 HT verfügt zudem über eine hohe Prozessstabilität, Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Variable HF-Leistung ermöglicht die präzise Steuerung der Abscheiderate, während ein robustes Wafer-Handling-System eine schonende Handhabung und sichere Übertragung der Wafersubstrate von der Kassette in die Kammer gewährleistet. AIXTRON AIX 2800G4 HT ist die ultimative Lösung für industrielle Beschichtungen und Beschichtungen. Seine erweiterten Funktionen, gepaart mit Anpassbarkeit, bieten unübertroffene Zuverlässigkeit und Qualitätsergebnisse für Dünnschichtanwendungen.
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