Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9226196 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9226196
Wafergröße: 2"-4"
Weinlese: 2010
MOCVD System, 2"-4"
GaN Base
In-situ tool
ES-A70 Dry pump
Size: 11"x4"
Manuals
Gases:
Gas / Source / Push
NH3_1 / 23000 / 500
NH3_2 / 23000 / 500
SiH4_l / 50 / 100
SiH4_2 / - / -
TMGa / 1000 / 1000
TMAI / 500 / 500
Cp2Mg / 1000 / 500
TMIn / 1000 / 500
TEGa / 1000 / 500
2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT ist ein Hochtemperatur-chemischer Dampfabscheidungsreaktor, der schnelle thermische Verarbeitung (RTP) und Mehrzonen-Heiztechnologie verwendet. Diese fortschrittliche Technologie wurde entwickelt, um dünne Filme in wiederholbarer und zuverlässiger Weise auf Substraten abzuscheiden. Das RTP ermöglicht eine effiziente und gleichmäßige Erwärmung der Substrat- und Reaktorkammer durch Verwendung mehrerer Heizelemente und einer Vielzahl von Gasen. AIXTRON AIX 2800G4-HT bietet eine geringe Fehlerbearbeitung mit guter thermischer Gleichmäßigkeit und Kontrolle, ideal für Anwendungen wie III-V und Siliziumphotonik. AIX 2800G4 HT Reaktor ist eine hochgradig anpassbare Plattform, die für bestimmte Prozessbedingungen wie Temperatur, Druck und Einspritzrate konfiguriert werden kann. Sein produktionstaugliches Design nutzt eine verteilte Mehrzonenheizung mit unabhängiger thermischer Steuerung über das gesamte Substrat. Diese Ausgestaltung ermöglicht eine präzise Steuerung der Abscheiderate, gleichmäßiger Oberflächenbeschichtungen und Dünnschichteigenschaften. AIX 2800 G4 HT Reaktor verwendet verbesserte Vorläufer, um einkristalline Schichten mit ausgezeichneter Oberflächendeckung zu schaffen. Dieser Reaktor unterstützt auch die Prozesssteuerung, die eine automatisierte und überwachte Abscheidung der gewünschten Materialien auf Substraten ermöglicht. Die hohe Selektivität dieses Reaktors sorgt für saubere Folien und Merkmale, mit ausgezeichneter Oberflächenplanität und reduzierter Randwulstbildung. AIXTRON AIX 2800 G 4 HT verfügt zudem über eine hohe Prozessstabilität, Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Variable HF-Leistung ermöglicht die präzise Steuerung der Abscheiderate, während ein robustes Wafer-Handling-System eine schonende Handhabung und sichere Übertragung der Wafersubstrate von der Kassette in die Kammer gewährleistet. AIXTRON AIX 2800G4 HT ist die ultimative Lösung für industrielle Beschichtungen und Beschichtungen. Seine erweiterten Funktionen, gepaart mit Anpassbarkeit, bieten unübertroffene Zuverlässigkeit und Qualitätsergebnisse für Dünnschichtanwendungen.
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