Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9232215 zu verkaufen

AIXTRON AIX 2800 G4 HT ist ein Überschall-Multi-Wafer MOCVD (Metall-organische chemische Dampfabscheidung) Reaktor für die Herstellung von Hochleistungs-optoelektronischen Geräten. Es ist für einen hohen Durchsatz von 8 Wafern/Charge ausgelegt und kann bis zu 200mm Durchmesser Wafer aufnehmen. AIXTRON AIX 2800G4-HT ist mit hochpräzisen Komponenten gebaut und bietet Prozessparameter, um Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit des Schichtwachstums zu gewährleisten. Es ist mit einem hochtemperaturbeheizten Suszeptor, einer Peltier-Kühlung und einem abnehmbaren Waferboot ausgestattet, das eine präzise Kontrolle der Temperatur, SiH4 Ätzrate und anderer Prozessparameter ermöglicht. Dies gewährleistet einen hohen Durchsatz bei minimalen Ausfallzeiten und maximaler Ausbeute. Die Eigenschaften von AIX 2800G4 HT bieten eine Reihe von Vorteilen für die optoelektronische Filmproduktion. Der Hochtemperatur-Suszeptor und die Peltier-Kühlung ermöglichen es dem Reaktor, Temperaturen von bis zu 1000 ° C zu erreichen, wodurch sich auch dünne Schichten mit außergewöhnlicher Kristallinität bilden können. Dies führt zu Geräten mit hervorragenden Leistungseigenschaften, wie verbesserten Parametern und verbesserter Gerätesicherheit. Darüber hinaus ist AIX 2800G4-HT mit AIXTRON Ultra-Fine Processing (UFP) Technologie ausgestattet, um sicherzustellen, dass die Prozessparameter auf höchstem Präzisionsniveau gehalten werden, und um Wiederholbarkeit und Ertrag zu gewährleisten. Dies hilft, einen hohen Durchsatz und zuverlässige, wiederholbare Ergebnisse zu garantieren. Um eine effektive Wartung zu gewährleisten, verfügt AIXTRON AIX 2800 G 4 HT über ein Fehlerüberwachungssystem zur Erkennung von Gasströmen, Temperaturen, Drücken und anderen lebenswichtigen Parametern. Die gesammelten Daten werden in einer Datenbank gespeichert, auf die remote zugegriffen werden kann, um die Qualität jedes Substrats zu optimieren. AIXTRON AIX 2800G4 HT ist ein ausgezeichneter optoelektronischer Reaktor zur Herstellung von Hochleistungsfolien mit konstanten Ergebnissen, hoher Leistungsfähigkeit und überlegener Zuverlässigkeit. Es vereint fortschrittliche Technologien, um alle Forschungs- oder Produktionsanforderungen optoelektronischer Anwendungen zu erfüllen.