Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9262094 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9262094
Weinlese: 2010
MOCVD System
Type: GaN
Capacity: 6"x6" / 4"x11" / 2"x24"
9 Channels chamber coil
Hydride line: NH3, (2) Dopant
Purifier: H2, N2, NH3
Pumps:
DOR SH-110 Pump
EBARA ESA70 Pump
Susceptor dimension: 520 mm D x 19 mm T
H2 Purifier (In line type)
TERATECH TPH-LP-500S (100S)
Gas: Hydrogen
Process methods: Line purifier
Flow rate(Nm³/hr): 10, 30, 50, 75, 100, 150, 300
Impurities has been removed: H2, O2, H2O, CO, CO2
2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT ist ein hochentwickelter Abscheidungsreaktor für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen in der Halbleiterindustrie. Es verfügt über ein einzigartiges Design, das eine verbesserte Kontrolle des Filmwachstums mit verbesserter Prozesswiederholbarkeit kombiniert, was zu verbessertem Prozessdurchsatz und besserer Geräteausbeute führt. AIXTRON AIX 2800G4-HT nutzt eine Kombination von Konstruktionsprinzipien, um die Reaktorleistung zu optimieren. Es verfügt über einen starken Quellenausnutzungsfaktor, der eine hohe Quellenintensität bietet und eine effiziente Rekombination von Spezies fördert, sowie eine niederprofilige Kammer für einen verbesserten Gasfluss und eine gleichmäßige Abscheidung. Der Reaktor weist außerdem eine geschwindigkeitsgesteuerte Waferstufe für hohe Stufenwiederholbarkeit und zuverlässige Wafer-zu-Wafer-Überlagerung auf. AIX 2800G4 HT ist mit den neuesten Abscheidungstechnologien ausgestattet, einschließlich reaktiver Ionenabscheidung mit mehreren Quellen, Substrat-unabhängiger Abscheidung, Off-Axis-Beschichtung und Dual-Target-Thermofeldverdampfung. Diese Technologien ermöglichen Forschung und Entwicklung in Bereichen wie 3D-integrierte Schaltungen, ultragroße Integration, Verbundhalbleiter, optische Beschichtungen und Kupfermetallisierung. AIX 2800 G 4 HT verfügt über erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen, die eine schnelle Inspektion und Anpassung der Abscheidungsparameter während des Wachstums ermöglichen. Diese Steuerung wird durch eine ausgeklügelte Kombination von Protokollierungs- und Abstimmalgorithmen erreicht, die sicherstellen, dass Nukleate- und Schichteinstellungen für den jeweiligen Prozess optimiert bleiben. AIX 2800G4-HT bietet maximale Substratbewegung für schnellere Prozesse sowie eine vollständig geschlossene Umgebung für mehr Sicherheit. Eine intuitive Benutzeroberfläche ermöglicht eine einfache Prozesseinrichtung und -überwachung, und das System ist mit allen führenden Halbleiterfab-Management-Software kompatibel. Insgesamt ist AIX 2800 G4 HT ein leistungsstarkes und vielseitiges Abscheidewerkzeug, das Anwendern eine präzise Kontrolle über Filmwachstum und Prozesswiederholbarkeit bietet. Als solches ist es ideal für Experimente mit den neuesten Halbleitertechnologien.
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