Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9305773 zu verkaufen

AIXTRON AIX 2800 G4 HT ist ein Metall-organische chemische Dampfabscheidung (MOCVD) Reaktor für effiziente und zuverlässige Heterostruktur Wachstum und Abscheidung von fortschrittlichen Materialien entwickelt. Diese ausgeklügelte Abscheideeinheit verfügt über eine Vierzonen-Prozesskammer mit Warmwandkonstruktion. Der fortschrittliche Temperaturregelkreis sorgt für präzise wiederholbare Abscheidebedingungen für hochwertige Heterostrukturen. AIXTRON AIX 2800G4-HT bietet auch eine Reihe von Funktionen, um das Prozessfenster für die hochreine Abscheidung der verschiedenen Arten von Materialien zur Herstellung von LEDs, Lasern, Solarzellen und Elektronik zu maximieren. Das erste wesentliche Merkmal von AIX 2800G4 HT ist seine Vier-Zonen-Prozesskammer. Diese Anordnung ermöglicht eine effizientere Prozesssteuerung und reduziert thermische Gradienten über den Wafer, wodurch eine gleichmäßigere Abscheideleistung erreicht wird. Die Prozeßkammer ist ferner mit einem beheizten Transferarm ausgestattet, der einen schnellen Transfer von Substraten in und aus der Reaktionskammer ermöglicht, ohne die Wafer einer zu hohen Prozeßtemperatur auszusetzen. Darüber hinaus verfügt AIX 2800G4-HT über einen erweiterten Temperaturregelkreis, der sich schnell an Druckänderungen und Substratorientierung anpasst, um im gewünschten Zieltemperaturbereich zu bleiben. AIX 2800 G 4 HT bietet auch einen erweiterten Satz von Abscheidungsparametern, um das Prozessfenster für verschiedene Abscheidungsanwendungen zu maximieren. Es ist mit bis zu fünf hybridisierten Duschköpfen ausgestattet, die für verschiedene Ablagerungsrezepte verwendet werden können. Die fortschrittliche und effiziente Gasförderanlage ermöglicht eine gleichmäßige Verteilung der Vorläufer auf die Prozesskammer, während das fortschrittliche Prozessüberwachungssystem die Prozessparameter in enger Übereinstimmung mit den optimalen Wachstumsrezepten unterstützt. AIXTRON AIX 2800 G 4 HT bietet zudem einen effizienten Substrathandhabungsmechanismus. Es verfügt über eine kompatible Rotationseinheit, die eine gleichzeitige, unabhängige Handhabung von bis zu drei Substraten ermöglicht und einen hohen Durchsatz ermöglicht. Der hochpräzise Roboter sorgt für eine genaue Positionierung der Wafer in der Prozesskammer für einen langzeitstabilen Betrieb. Schließlich ist die integrierte Prozesssteuerungssoftware benutzerfreundlich und bietet eine Reihe fortschrittlicher Automatisierungsfunktionen, um den Eingriff des Bedieners zu reduzieren. AIXTRON AIX 2800G4 HT ist ein fortschrittlicher MOCVD-Reaktor, der für eine zuverlässige und wiederholbare Abscheidungsleistung für eine Vielzahl von Anwendungen wie LEDs, Laser, Solarzellen und integrierte Elektronik optimiert ist. Seine Vierzonenkammer bietet eine präzise Steuerung der Prozessparameter, während der fortschrittliche Temperaturregelkreis und die automatisierte Handhabungsmaschine für einen effizienten und zuverlässigen Abscheidevorgang sorgen.