Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9305775 zu verkaufen

AIXTRON AIX 2800 G4 HT ist ein Hochtemperatur-Metall-organische chemische Dampfabscheidung (MOCVD) Reaktor für die Herstellung von kristallinen Filmen aus III-V und II-VI Halbleitermaterialien ausgelegt. AIXTRON AIX 2800G4-HT enthält eine abgespeckte Version des AIX 2800 G4 mit einer deutlich reduzierten Vakuumausrüstung, isolierten Reaktionskammerwänden und einer höheren Temperaturfähigkeit. Diese Konfiguration macht AIX 2800G4 HT für das Wachstum von Materialien geeignet, die den Einsatz höherer Temperaturen und mit reduzierten Kosten im Verhältnis zum voll ausgestatteten AIX 2800 G4 erfordern. AIXTRON AIX 2800 G 4 HT verfügt über eine vertikale Reaktionskammer, die zur Erwärmung auf maximale Arbeitstemperaturen von 850 ° C ausgelegt ist. Diese Kammer wird mit einer optimierten Kombination aus Turbopumpe, Diffusionspumpe und Stützpumpen auf Ultrahochvakuumniveau gehalten. Die maximale Pumpgeschwindigkeit dieses Systems ist höher als die im Standard AIX 2800 G4 vorgesehene. Die Prozesskammer verfügt außerdem über ein beheiztes Drosselventil zur Verbesserung der Prozesstemperaturregelung, separate Heizzonen für das Waferkarussell und die Möglichkeit, zusätzliche Heizelemente auf die vorhandenen hinzuzufügen. AIX 2800G4-HT kann sowohl Standard- als auch kundenspezifische fortschrittliche Reinigungsgase verwenden, um eine Reihe von Reaktionsbedingungen zu schaffen, wodurch seine Benutzer hochwertige Folien für eine Vielzahl von Geräteanwendungen anbauen können. Diese Einheit unterstützt auch die Verwendung vieler Substratgrößen, von 2-Zoll bis 8-Zoll, um das Wachstum verschiedener Folientypen zu ermöglichen. AIXTRON AIX 2800G4 HT enthält auch eine digitale Instrumentierungsmaschine mit einer Reihe von verschiedenen Steuerungen wie Gas Manager, X-Y-Bühne, Heizleistung und Abscheiderate. Dieses Instrumentierungstool soll Forschern Zugang zu umfassender Prozesssteuerung, Datenerfassung und Überwachung bieten. Insgesamt ist AIX 2800 G 4 HT ein robuster und hochtemperaturstarker MOCVD-Reaktor mit verschiedenen Temperaturregelungsoptionen und fortschrittlichen Prozessmerkmalen, um die Abscheidung hochwertiger Folien zu ermöglichen. Die schlanke Kammergeometrie und das reduzierte Vakuum machen es zu einer besonders kostengünstigen Lösung für temperaturintensive Prozesse.