Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 IC #9256420 zu verkaufen

AIXTRON AIX 2800 G4 IC ist eine branchenführende Reaktorausrüstung, die für die kostengünstige, serienstarke Produktion von Halbleitern und Nanomaterialien entwickelt wurde. Unter Verwendung der AIXTRON advanced MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) Technologie ist dieses System in der Lage, hochpräzise, komplexe Halbleiterstrukturen und Filme mit einem hohen Grad an Kontrolle zu schaffen. AIX 2800 G4 IC bietet hervorragende Wachstumsgleichmäßigkeit, Wiederholbarkeit und niedrige Betriebskosten für eine Vielzahl von Serienzielen. Es hat eine maximale Wafergröße von 450 mm und maximal 12 unabhängige Prozesskammern und ist somit ideal für automatisierte Produktionsprozesse. Es ist auch für minimale Wartungsanforderungen konzipiert, mit sauberen Umgebungsbedingungen während des Betriebs für verbesserte Prozesswiederholbarkeit. Die MOCPD-Technologie der Einheit (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) nutzt die Kurzpulszufuhr von metalorganischen Vorläufergasen, um konforme Beschichtungen zu erzeugen. Dies ermöglicht eine hohe Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit von nanometerdicken Folien auf verschiedenen Substraten wie Si, GaAs, GaInAs und anderen Legierungen. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine dynamische Drucksteuerung, eine Multifunktionskarte und ein vollautomatisiertes Werkzeug zur Materialhandhabung. Die Anlage bietet eine Reihe von Prozessfähigkeiten, darunter Rolling Anneal, Epitaxie, metalorganisches CVD und physikalische Dampfabscheidung. Darüber hinaus ermöglicht seine PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) die Oberflächenpassivierung von Si sowie dielektrischen Schichten. AIXTRON AIX 2800 G4 IC ist auch in der Lage, modernste Halbleiterbauelemente wie GaN LED-Strukturen und GaAs MEMS herzustellen. AIX 2800 G4 IC Reaktormodell bietet außergewöhnliche Vielseitigkeit, Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit für kostengünstige Großserienproduktion von fortschrittlichen Halbleiterbauelementen. Seine MOCPD, PECVD und andere Prozessfähigkeiten ermöglichen es Kunden, komplexe Geräte schnell und präzise mit minimalen Wartungsanforderungen zu erstellen. Das macht es eine ideale Wahl für jede Organisation, nach der modernsten Technologie für die Hochleistungshalbleiterfertigung suchend.