Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 ICHT #9135752 zu verkaufen

AIXTRON AIX 2800 G4 ICHT Reaktor ist ein leistungsstarker, zuverlässiger Reaktor für fortschrittliche Epitaxie- und Wachstumsanwendungen. Es wurde entwickelt, um fortschrittliche Kontrolle, Präzision und Genauigkeit vom Beginn eines Prozesses bis zur Fertigstellung anzubieten. Mit diesem Modell hat sich AIXTRON aufgrund seiner hohen Ausbeute und der zuverlässigen Produktion hochwertiger Materialien als Marktführer etabliert. AIX 2800 G4 ICHT Reactor ist ein Mehrzonen-Gerät, das eine präzise Temperaturregelung und eine breite Palette von Prozessbedingungen mit einem hohen Grad an Wiederholbarkeit bietet. Dieses Modell bietet 193 Bearbeitungskammern, die größere Schränke und schnellere Ladezeiten ermöglichen. Darüber hinaus verfügt es über ein integriertes Prozesssteuerungs- und Datenerfassungssystem, das eine Echtzeitüberwachung aller Prozessparameter ermöglicht. Das Gerät unterstützt auch erweiterte Waferbearbeitungs-, Messtechnik- und Wafer-Load-Unload-Funktionen. Das vielseitige Reaktordesign ermöglicht den Einsatz der metalorganischen chemischen Dampfabscheidungstechnologie (MOCVD) und bietet eine hervorragende Gleichmäßigkeit und Schrittabdeckung über die gesamte Substratoberfläche. Dieses Modell bietet auch Planarisierungstechnik, die komplexe Gerätearchitekturen ermöglicht, die ohne zusätzliche Bearbeitung hergestellt werden können. Mit der eingebauten Turbulenzplatte ist das Kristallwachstum konstant und gleichmäßig - auch über große Wafer. AIXTRON AIX 2800 G4 ICHT Reactor ist mit einem hochpräzisen Rotationsantrieb und einer Carbolith-Prozesskammer ausgelegt und bietet eine inerte, stabile Prozessumgebung. Dieses Modell verfügt auch über EQCU (epitaktische Quarzkristalleinheit), die Niederdruck-Prozesssteuerung bietet und eine kostengünstige und zuverlässige Prozessumgebung schafft. Der Reaktor arbeitet auf einer geschlossenen Stabilisierungsmaschine, die höchste Prozesskontrolle und Genauigkeit bietet. Insgesamt ist AIX 2800 G4 ICHT Reactor ein fortschrittliches Werkzeug, das unübertroffene Leistung und Ausbeute in epitaktischen und Wachstumsanwendungen bietet. Mit 193 Verarbeitungskammern und einer integrierten Steuerungs- und Datenerfassung bietet es eine präzise Temperaturregelung, eine breite Palette von Prozessbedingungen und ein gleichmäßiges Kristallwachstum. Mit seinem fortschrittlichen Drehantrieb und der Carbolith-Prozesskammer bietet dieses Modell eine inerte, stabile Prozessumgebung für genaues und kostengünstiges Wachstum.