Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 #9229944 zu verkaufen

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Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX 2800 G4
ID: 9229944
Wafergröße: 4"-6"
Weinlese: 2008
Epitaxial cluster system, 4"-6" Process: SiC-Epitaxy Gases: C3H8, SiH4, H2 & GMS Prepared for Chlorine Chamber Spare parts Accessories: RF Generator Scrubber Heater Power supply: 380 V, 63 A, 50 Hz, 3 Phase CE Marked 2008 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition) für die Entwicklung, Produktion und Forschung von Halbleiterbauelementen. Das Gerät ist ideal für die Herstellung hochwertiger Materialien und Geräte in anspruchsvollen industriellen und wissenschaftlichen Anwendungen wie gedruckter Elektronik, fortschrittlichen Materialien und Nanogeräten. AIXTRON AIX2800G4 verfügt über eine kaltwandige 10-Zonen-Brausekopf-Prozesskammer, die 667 mm im Durchmesser und 890 mm in der Höhe misst. Die Prozesskammer ist in der Lage, größere Substrate bis zu einer Größe von 450 × 450mm aufzunehmen. Die Kammer ist gut isoliert und hat einen Konstruktionsdruck von 2 mbar, wodurch eine hohe Prozesswiederholbarkeit gewährleistet ist. Das System ist auch mit fortschrittlicher In-situ-Temperaturregelung ausgestattet, die Stabilität und Genauigkeit innerhalb von +/-1 ° C des eingestellten Wertes bietet. AIX 2800G4 wird von der Prozesssteuerungssoftware AIXTRON PRECISION+™ angetrieben, die Anwendern eine intuitive Benutzeroberfläche und erweiterte Möglichkeiten in der Prozesssteuerung und -optimierung bietet. Die PRECISION+™ Software ermöglicht es Benutzern, von überall auf der Welt auf Prozessrezepte zuzugreifen, Fernsteuerungsprozesse von jedem webfähigen Gerät aus durchzuführen und Prozessabläufe in Echtzeit einzurichten. Darüber hinaus verfügt es über eine leistungsstarke Datenerfassungseinheit, die Anwendern umfassende Prozessanalysen bietet und die Maschinenleistung über einen langfristigen Betrieb überwacht. AIXTRON AIX 2800 G 4 Reaktor verfügt über PDP- MC™ Multi-Source-Abscheidetechnologie für verbesserten Prozessdurchsatz und verbesserte Folienhomogenität. Das Werkzeug ist auch mit der Turbo- ColdWall™-Technologie für gleichmäßige Temperaturverteilung, geringe Folienbelastung und verbesserte Prozessstabilität ausgestattet. Es verfügt auch über eine leistungsstarke, automatisierte Be- und Entladung Asset, die hilft, die Produktivität zu verbessern und Ausfallzeiten zu reduzieren. Insgesamt ist der Forschungsreaktor AIX 2800 G4 ein Hochleistungsmodell, das hervorragende Prozessstabilität und Gleichmäßigkeit bietet. Der Einsatz fortschrittlicher Technologien in Verbindung mit der hilfreichen Benutzeroberfläche und Prozesssteuerungssoftware macht es ideal für die Herstellung hochwertiger Filme in anspruchsvollen industriellen und wissenschaftlichen Anwendungen.
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