Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 #9394709 zu verkaufen

AIXTRON AIX 2800 G4 ist eine hochmoderne PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) -Ausrüstung zur industriellen Herstellung verschiedener Dünnfilm-gemusterter Saphirsubstrate (PSS) und strukturierter Beschichtungen. Der Reaktor ist auf höchste Leistung und Flexibilität bei der Dünnschichtabscheidung ausgelegt. Das bemerkenswerteste Merkmal von AIXTRON AIX2800G4 ist seine leistungsstarke ICP (induktiv gekoppelte Plasmaquelle). Diese Quelle enthält einen ICP-Generator der zweiten Generation sowie einen speziell entwickelten Leistungsregler. Der Leistungsregler bietet bis zu 5 verschiedene Leistungsstufen, wodurch Benutzer Plasmaparameter im Handumdrehen anpassen können. Diese verbesserte Kontrolle der Plasmabedingungen ermöglicht eine gleichmäßige Beschichtungsdicke und eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit der Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Schichten. AIX 2800G4 verfügt zudem über ein hochpräzises Positionsgaszufuhrsystem sowohl für Reaktantgase als auch für Spülgase. Es umfasst einen automatisierten Druckregler, Durchflussventile und einen Mehrzonenverteiler zur Zuführung von Reaktantgasen zur ICP-Quelle. Auf diese Weise kann der Anwender den Eingang reiner und reaktiver Gase präzise steuern und so die Filmabscheiderate genau steuern. AIX 2800 G 4 ist in der Lage, die höchsten weltweiten Marktstandards in Bezug auf präzise und präzise Dosiskontrolle zu erfüllen. Als Reaktor für die Herstellung von PSS kommt AIX 2800 G4 mit einem Doppelreaktorkammerdesign, das optimiert ist, um eine präzise, gleichmäßige Beschichtung auf PSS zu ermöglichen. Diese Doppelkammerausführung weist eine innere hohe Kammer zur Filmabscheidung und eine äußere untere Kammer zur Strukturierung auf. Die präzise Temperatur- und Druckregelung dieser beiden Kammern ermöglicht eine äußerst präzise Regelung von Druck und Temperatur in der Abscheidekammer, was zu einer Gleichmäßigkeit der PSS-Schichten führt. Der Reaktor zeichnet sich auch durch hohe Positioniergenauigkeit und Gleichmäßigkeit aus. Dies bedeutet, dass es in der Lage ist, Masken und Schablonen genau zu positionieren, um eine möglichst hohe Auflösung für die PSS-Produktion zu erreichen. Das Gerät kann sogar für hochauflösende lasergestützte Abscheidung (HRLAD) von PSS verwendet werden. Insgesamt ist AIXTRON AIX 2800 G 4 eine leistungsstarke und präzise PECVD-Reaktormaschine, die branchenführende Leistung und Flexibilität bietet. Sein fortschrittlicher ICP-Generator und Positionsgaszufuhrwerkzeug bieten eine präzise Steuerung von Plasmaparametern und Reaktantgasen, während sein Doppelreaktorkammerdesign eine präzise Abscheidung und Strukturierung von PSS gewährleistet. Seine hohe Positionsgenauigkeit und Gleichmäßigkeit machen es ideal für hochauflösende PSS-Produktion.