Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 #9394717 zu verkaufen

Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX 2800 G4
ID: 9394717
Wafergröße: 4"
Weinlese: 2010
MOCVD System, 4" GaN Process Epitaxy reactor 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 ist ein Niederdruck-CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der den Prozess der Herstellung dünner Filme bei der Herstellung verschiedener fortschrittlicher Substrate erleichtert. Dieser vielseitige Reaktor ermöglicht die Abscheidung verschiedener Materialien wie polykristallines Silizium und Nanomaterialien und bietet gleichzeitig eine Reihe von Vorteilen für Anwender, darunter niedriges thermisches Budget, erhöhte Abscheidungsrate und sichereren Betrieb. AIXTRON AIX2800G4 besteht aus einer temperaturgesteuerten Reaktionskammer sowie einem Verschluss, Plasmagenerator und planaren Kassetten. Die temperaturgesteuerte Reaktionskammer besteht typischerweise aus einem Graphitkühlkörper, einem keramischen Hitzeschild, einem Suszeptor und einem zweizonigen Quarzmantel. Ein vertikaler Aktor kann zur manuellen Positionierung des Substrats installiert werden und ermöglicht die Verwendung verschiedener Substrate. Der Verschluss wird durch einen Präzisionsschraubenantrieb gesteuert und dient zur Regelung des Materialabscheidungsprozesses. Der Plasmagenerator liefert die für die Chemisorption der Reaktanden benötigte Energie und ist für die Bereitstellung von sehr lokalisiertem Plasma ausgelegt. Die flächigen Kassetten stellen Träger verschiedener Substrate zur Verfügung, ohne den Suszeptor wechseln zu müssen. Um einen sicheren Betrieb und eine effiziente Produktion zu gewährleisten, umfasst AIX 2800G4 Sicherheitssysteme wie PIR-Sensoren und Drucksensoren. Die PIR-Sensoren erkennen eine starke Strahlung, während die Drucksensoren verwendet werden, um den Druck innerhalb des Reaktors zu überwachen und den Benutzer zu benachrichtigen, wenn er sich nicht mehr innerhalb der Betriebsgrenze befindet. AIXTRON AIX 2800G4 verfügt auch über viele benutzerfreundliche Funktionen, wie die automatischen Systemschnittstellen und die Touchscreen-Bedienoberfläche, wo Benutzer auf Informationen wie Prozessparameter und Reaktoreinrichtungsbedingungen zugreifen können. AIXTRON AIX 2800 G 4 ist ein vielseitiger und zuverlässiger Reaktor, der sich zum Abscheiden einer Vielzahl von Materialien für eine Vielzahl fortschrittlicher Substrate eignet. Es bietet Anwendern geringes thermisches Budget, erhöhte Abscheiderate und erhöhte Sicherheit mit den Sicherheitssystemen und benutzerfreundlichen Funktionen. AIX 2800 G 4 ist ein idealer Niederdruck-chemischer Dampfabscheidungsreaktor für eine Vielzahl von Anwendungen.
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