Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G4 #9412483 zu verkaufen

Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX 2800 G4
ID: 9412483
Wafergröße: 4"
Weinlese: 2010
MOCVD System, 4" GaN Process Epitaxy reactor 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 ist ein hochmotorisierter und vielseitiger ultrakurzer pulsierender Pulsabscheidungsreaktor, der für verschiedene Dünnschichtanwendungen entwickelt wurde. AIXTRON AIX2800G4 ist mit fortschrittlicher Technologie und Komponenten ausgestattet, die intensive Pulsenergien und schnelle Repetitionsraten für die schnelle Abscheidung von Dünnschichtmaterialien unter verschiedenen Bedingungen ermöglichen. AIX 2800G4 verfügt über die Möglichkeit, im Kurzpulsmodus und im Permittivitätsmodus zu arbeiten und für eine Vielzahl von Substratgrößen und Geometrien konfiguriert zu werden. AIX 2800 G 4 verfügt über einen leistungsstarken Mikrowellenleistungsgenerator und hat eine schaltbare 400 kW Spitzenleistung mit einer Pulsdauer von 1-20 Mikrosekunden und einer Wiederholrate von bis zu 30 kHz. Ein Hochtemperaturheizelement ermöglicht es Substraten, Spitzentemperaturen bis zu 1100 ° C zu erreichen. Diese hohe Temperatur ist wichtig für die Erzielung einer optimalen Schichtdicke und Gleichmäßigkeit. AIX2800G4 bietet eine breite Palette von Prozesssteuerungsfunktionen wie Druck- und Temperaturregelung, Flussregelung und Steuerung. Der Reaktor hat Systeme eingebaut, die Aberrationen kompensieren, die durch Schwankungen des Umgebungsdrucks und der Substrattemperatur verursacht werden. AIXTRON AIX 2800 G 4 verfügt auch über ein eingebautes Rückkopplungssystem, um Substrattemperatur und Druckstabilität während des Pulsabscheidungsprozesses zu gewährleisten. AIXTRON AIX 2800G4 verfügt über zwei Hauptprozesskammern. Jede Kammer ist mit zwei planaren Antennen ausgestattet, um Prozesse wie Schichtübertragung, Plasmaätzen, RIE-Ätzen, Abscheiden und Filmmustern zu ermöglichen. Der Substrathalter ist für eine Vielzahl von Substratgrößen und Geometrien ausgelegt. AIX 2800 G4 bietet auch einen Bordcomputer mit benutzerfreundlicher Navigation und Echtzeit-Prozesssteuerung. Der Reaktor kann aus der Ferne mit Softwarepaketen betrieben werden, die auf dem Steuersystem installiert sind und eine automatische Prozesszyklussteuerung und -durchführung ermöglichen. Darüber hinaus unterstützt es ein Datenerfassungssystem mit Bildverarbeitungsfunktionen. AIXTRON AIX 2800 G4 umfasst Zubehör wie Klemm- und Transportsysteme, Gaseinlässe, Gasentnahmerohre und Leckageleitungen. AIXTRON AIX2800G4 ist in der Lage, in einer Vielzahl von Konfigurationen und Bedingungen ideal für Prozesse wie Atomic Layer Deposition (ALD), Metall organische chemische Dampfabscheidung (MOCVD) und physikalische Dampfabscheidung (PVD) laufen.
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