Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9226657 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9226657
Wafergröße: 2"-6"
Weinlese: 2011
MOCVD System, 2"-6"
GaN
Chamber: 56 x 2" / 8 x 6"
Temperature monitor: Photrix / EPI TT
Hydride lines: NH3-1 / NH3-2 / SiH4
MO Source:
TMGa-1, TMGa-2, TMAI-1, Cp2Mg-l, Cp2Mg- 2, TMIn-1, TMIn-2, TEG-1, TEG-2
Main body
RF Generator: 1210 mm(L) x 800 mm(W) x 2300 mm(H)
Main pump: EBARA ESA80W-HDF
Pump: (2) Scroll pumps
Monitor: Photrix LWL Luxtron
Monitor: EpiTT x GS x 405 nm
Wiring: 4 Wire + Ground
Power: 400 / 230 VAC, 3-Phase
2011 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT ist ein Hochleistungs-Reaktivionenätzreaktor (RIE), der für das präzise Ätzen von Großsubstraten ausgelegt ist. Der AIX 2800 eignet sich sowohl für Low-Energy (LE) als auch für High-Energy (HE) -Ätzungen, wodurch er maximale Flexibilität und Prozessgenauigkeit bietet. Der AIX 2800 ist mit einem 13,56 MHz Generator und einem Hohlraum mit Vorkehrungen für die mehrschichtige Kathoden-/QCM-Steuerung ausgestattet. Diese Konfiguration bietet eine verbesserte Gleichmäßigkeit des Ätzprozesses, eine hohe Ätzgleichförmigkeit über die Waferoberfläche und eine verbesserte Wiederholbarkeit. Die AIX 2800 verfügt zudem über Doppellastschlösser, einen mehrstufigen Pumpenaufbau, ein Kammertemperaturregelsystem mit Echtzeit-Temperaturüberwachung sowie einen integrierten SPS und Schneider Electric Servoregler. Dieses erweiterte Feature-Set ermöglicht das Ausführen von mehrstufigen Ätzrezepten mit hoher Wiederholbarkeit und Genauigkeit sowie eine verbesserte Automatisierung und Prozesssteuerung. Die AIX 2800 verfügt auch über die neueste Technologie in der In-situ-Restgasanalyse. Dieses System nutzt ein an der Prozesskammer angebrachtes Massenspektrometer, um die Bestandteile der Kammeratmosphäre zu analysieren, um die Ätzleistung für jede Prozessstufe zu optimieren. Die vielseitigen Ätzfähigkeiten des AIX 2800, seine fortschrittlichen Eigenschaften und seine Kompatibilität mit einer breiten Palette von Substraten machen es zu einem idealen Ätzwerkzeug für Produktionsanlagen in der Halbleiter-, MEM- und LED-Industrie. Es ist ein effizientes und zuverlässiges Werkzeug, um Kosten zu minimieren und den Geräteertrag im Herstellungsprozess zu erhöhen.
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