Gebraucht AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9278265 zu verkaufen

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Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX 2800 G5 HT
ID: 9278265
Weinlese: 2010
MOCVD System GaN Main body RF Generator EBARA ESA80W-HDF Pump (2) Scroll pumps Chamber: 8" x 6" Hydried line: NH3-1, NH2-1, SiH4 Temperature monitors: Photrix LWL luxtron EpiTT x G5 x 405 nm MO Sources: TMGa-1 TMGa-2 TMAl-1 Cp2Mg-1 Cp2Mg-2 TMIn-1 TMIn-2 TEGa-1 TEGa-2 Power supply: 380/230 VAC, 3 Phase, 4 wires+ground 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der speziell für die Geräteherstellung entwickelt wurde. Diese Art von Reaktor wird zur Herstellung von halbleiter- und optoelektronischen Materialien und Komponenten, wie Siliziumscheiben, für eine Vielzahl von Produkten, die elektrische Komponenten enthalten, verwendet. AIXTRON AIX 2800G5 HT ist mit einer leistungsstarken Ionenquelle und einem innovativen Plasmagenerator ausgestattet, der höchste Abscheidungstemperaturen von bis zu 1000 ° C in einer Vielzahl von Prozessatmosphären ermöglicht. AIX 2800 G5 HT ist ein Ganzwafer-Abscheidungsgerät, d.h. es lagert sich während der Reaktion über die gesamte Oberfläche eines einzelnen Wafers ab. Dies macht es ideal für Anwendungen auf kleinen und großen Chargen. Darüber hinaus ist die Reaktionskammer des G5 HT mit einem fahrerlosen Roboterarm ausgestattet, der eine präzise Bewegungssteuerung des Wafers relativ zum Abscheidesystem ermöglicht und eine Optimierung der thermischen Gleichmäßigkeit und der hohen Ablageeigenschaften ermöglicht. AIX 2800G5 HT ist extrem effizient und seine Leistungsfähigkeit ist beispiellos. Es verwendet eine hoch kontrollierbare und zuverlässige Strömungseinheit mit einer zuverlässigen Gas-Handling-Maschine. Das Gas Handling Tool ist geschlossen und automatisiert und gewährleistet höchste Effizienz und Sicherheit bei der Verarbeitung seiner Materialien. AIXTRON AIX 2800 G5 HT verfügt auch über forschungsgerechte Kammerwände, die eine beispiellose Homogenität des Abscheidungsprozesses bieten. AIXTRON AIX 2800G5 HTs Anlage zur Temperaturregelung ist eines seiner eindrucksvollsten Merkmale. Dieses Modell sorgt für eine äußerst präzise und konsistente Erwärmung des Wafers und bietet somit eine überlegene Temperaturregelung und Homogenitätsinduktion über den Wafer. Dies verbessert auch die Abscheidegleichmäßigkeit und vermeidet eventuelle thermische Schäden am Substratmaterial. Darüber hinaus ermöglicht seine flexible Konfiguration und Steuerung dem Benutzer Echtzeit-Anpassungen des Abscheidungssystems, um das beste Prozessergebnis zu gewährleisten. Insgesamt ist AIX 2800 G5 HT eine fortschrittliche und zuverlässige CVD-Einheit, die eine schnelle und kosteneffiziente Geräteherstellungslösung bietet. Seine Langzeitstabilität, Maschineneffizienz und sein breites Prozessspektrum machen es zu einer optimalen Wahl für eine Vielzahl von industriellen Anwendungen und seine integrierten Eigenschaften machen es auch für Forschungsarbeiten geeignet.
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