Gebraucht AIXTRON AIX G5 HT #293594749 zu verkaufen

AIXTRON AIX G5 HT
Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX G5 HT
ID: 293594749
MOCVD System Process: GaN.
AIXTRON AIX G5 HT ist ein Hochdurchsatzreaktor zur Steigerung der Produktionskapazität für die Herstellung von Verbundhalbleitermaterialien. Der Reaktor basiert auf der fortschrittlichen Technologie von Heißwand-CVD, die eine qualitativ hochwertige und ertragreiche Herstellung von epitaktischen Schichten für Verbundhalbleiteranwendungen ermöglicht. Das Gerät bietet mehrere einzigartige Merkmale, wie programmierbare Gaszusammensetzung Einstellungen, unabhängige Strömungsregelung für jedes Gas und programmierbare Zonentemperaturen für die Anpassung der Prozessbedingungen. Der Reaktor ist mit einem beheizten Futter für die Substratheizung, einer heißen Wand im Prozessbereich und einem vertikalen Ofenbelademechanismus ausgestattet, der eine ideale Plattform für die wiederholbare und zuverlässige Herstellung von Verbundhalbleiterschichten bietet. Der Reaktor ist auf die Herstellung von Materialien wie AlGaAs, AlInAs und InGaAs spezialisiert, die komplexe Prozessrezepte mit Feineinstellung der Gaszusammensetzung, Gasdurchflussraten und Temperatur erfordern. AIXTRON AIX G 5 HT Reaktor ist in der Lage, eine homogene Substrattemperatur über die heiße Wand, die hilft, die Prozessparameter unter Kontrolle zu halten und die Wiederholbarkeit der Prozessergebnisse zu gewährleisten. Weiterhin ist das Werkzeug mit einem modularen Abtastsystem und einer fortgeschrittenen Wafer-Erkennungseinheit ausgestattet, die eine automatische Wafer-Erkennung ermöglicht und somit erhebliche Zeiteinsparungen beim Umschalten zwischen Bearbeitungsrezepten bietet. AIX G5 HT bietet eine hervorragende Temperaturregelung in seinem Prozessbereich mit Zonen, die auf 0,1 ° C eingestellt werden können. Darüber hinaus bietet die Maschine eine hochpräzise Steuerung für bis zu vier Gase und ermöglicht so fein abgestimmte Prozessbedingungen für die Herstellung empfindlicher Verbindungen. Mit einem optionalen Röhrenofen Addon kann AIX G 5 HT auch für Flüssigphasenepitaxie verwendet werden, was eine weitere Anpassung der Prozessbedingungen an die Bedürfnisse eines bestimmten Verbindungshalbleiters ermöglicht. AIXTRON AIX G5 HT wurde für Großserienanwendungen entwickelt, die den Anforderungen der industriellen Massenproduktion entsprechen. AIXTRON AIX G 5 HT ist mit seiner leistungsstarken Gassteuerung, seinem homogenen Temperaturprofil und seinen Prozessautomatisierungsfunktionen das Werkzeug der Wahl für die großflächige Herstellung von Verbundhalbleitern.
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