Gebraucht AIXTRON AIX G5 HT #9074863 zu verkaufen

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Hersteller
AIXTRON
Modell
AIX G5 HT
ID: 9074863
Weinlese: 2011
MOVPE Planetary Reactor Includes Transfer Module Application: 14x4" wafer deposition Planetary Reactor System: Cabinet with lining Stainless steel reactor chamber: water-cooled, vertical lid lifting mechanism High Growth Rate (HGR) injector: water-cooled, SiC coated graphite planetary disk, sandwich design Max. light-pipe temperature: 1250ºC SiC coated graphite wafer holder (satellite) with Gas Foil Rotation (2) In-situ monitoring viewports from top Ferro-fluidics feedthrough for main rotation with rotation monitoring Center purge line Thermostated reactor chamber ceiling Graphite exhaust collector and outer liner to prevent deposition on chamber wall Individual Satellite Rotation Drive (EqiSat) Glove box Main Gas Blending Unit RF-Heating Unit Vacuum Cleaner for glove box Vacuum System Large Particle Trap for nitride application Process pump Automated satellite transfer system for high temperature operation (600ºC) Computer Control System Remote PC Safety System Gas Handling System: (5) MO-G1 Standard Metal-Organic Channel (2xTMGa/H2, 2xTEGa/N2, 1xTMAI/H2) (2) MO-G1-D Double Standard Metal-Organic Channel (2xCp2Mg/H2, 2xTMIn/N2) (1) MO-G2-T Triple Standard Gas Channel (3xNH3) (1) MO-G3_Double Dilution Metal-Organic Channel (N.N./N2) (1) MO-G4 Double Dilution Gas Channel with additional pusher (1xSiH4/H2) (1) MO-G5-10M Vacuum Lines (3) MO-G6 Dummy Line (2xMO, 1xHydride Top run/vent) (1) N2/H2 Separation of two MO-Stacks (2) N2/H2 Mixture unit for one Run/Vent Stack (1xMO Run/Vent) (2) MO-Differential Vent-Run Pressure Balancing (2xMO Run/Vent) (2) Upgrade Thermo Bath MO-Standard Gas Channel (5% Cl2/N2 for reactor clean) EpiCurve TT TWO: Emissivity corrected pyrometry at 950nm Individual wafer measurement of surface temperature High position resolution Real-time measurement Temperature accuracy: +/-1K Growth rate measurement at selectable second wavelength: 950 +405nm for GaN 19" Electronic controller, including light source and detector User manual and CD software Purification: (2) Moisture Sensor (H2, N2): DP measurement range possible down to -120ºC (1ppb) Integration of Read-Out Value into control system Purifier Cl2 Extensions: Vacuum Tweezer N2 gun for glove box Cl2 Scrubber: Cleansorb CS200SE 2011 vintage.
AIXTRON AIX G5 HT ist ein Hochleistungs-, Hochdurchsatz-Metall-organische chemische Dampfabscheidung (MOCVD) Reaktor für die Herstellung von fortschrittlichen Materialien und Bauelementen wie Halbleiter verwendet. Der Reaktor verwendet hochentwickelte Verfahren, um die korrekte Belichtung verschiedener Materialien mit den Plasma- und Substratkammerkomponenten zu gewährleisten. Wichtige Anwendungen AIXTRON AIX G 5 HT ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien kostengünstig herzustellen. Es ist in der Industrie für seine hohe Selektivität auf verschiedenen Materialsubstraten bekannt, von Silizium bis hin zu Hochleistungsmaterialien wie Galliumarsenid für Elektronik- und Optoelektronik-Anwendungen. Darüber hinaus ermöglichen stark reproduzierbare Produktionsprozesse und Prozesskontrollen eine erhöhte dimensionale und strukturelle Kontrolle und großflächige Gleichmäßigkeit der abgeschiedenen Folien. G5 HT Programmierbare Prozesstechnologien AIX G5 HT bietet eine Reihe von Prozesstechnologien, die für den Erfolg jeder Materialabscheidung von entscheidender Bedeutung sind. Die programmierbaren Abscheidungsquellen ermöglichen es dem Anwender, mit verschiedenen reaktiven Spezies zu arbeiten, während die Gaszuführungssysteme den Einsatz von Trägergasen zur Zuführung der reaktiven Spezies in die Reaktionskammer ermöglichen. Darüber hinaus können Hochfrequenzgeneratornetzteile vollständig kundenspezifische Impulswellenformen erzeugen, um die Haftung zu erhöhen und die Gleichmäßigkeit der Filme zu verbessern. Plasmaquellen und Substratheizung Die Hochleistungs-Plasmaquelle und fortschrittliche Substratheiztechnik in AIX G 5 HT ermöglicht eine präzise Folienproduktion bei besserer Kontrolle der chemischen, strukturellen und mechanischen Zusammensetzung der Folien über große Flächen. Die Plasmaquelle im G5 HT ist leistungsfähig genug, um schnelle und zuverlässige Ätz- und Abscheidungsprozesse zu erreichen, die für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente von entscheidender Bedeutung sind. Sicherheit und Compliance AIXTRON AIX G5 HT ist in voller Übereinstimmung mit den einschlägigen Sicherheitsvorschriften konzipiert, um einen sicheren Betrieb und eine optimale Sicherheit für das Bedienungspersonal zu gewährleisten. Darüber hinaus wird der Reaktor überdrückt und unter Druck gesetzt, um eine schnelle Evakuierung von Gefahrstoffen und Dämpfen zu ermöglichen. Schließlich ist AIXTRON AIX G 5 HT auf Energieeffizienz ausgelegt und kann im halbdichten Modus arbeiten, um lange Prozesszeiten zu gewährleisten.
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