Gebraucht AIXTRON AIX G5 HT #9283177 zu verkaufen

AIXTRON AIX G5 HT ist ein hochmoderner kontinuierlicher Planetenrotor-Hochdurchsatzreaktor (HTR) zur Herstellung von Mikrowellen-Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (MPECVD) Verfahren. Es ist für die Hochleistungsabscheidung von Materialien mit ausgezeichneter Breite und Selektivität ausgelegt. Der Reaktor ist in der Lage, hohe Durchsatzraten (bis zu 20 Wafer/min) bei konstanter Temperatur und Gasregelung zu liefern. AIXTRON AIX G 5 HT wurde entwickelt, um bestehende Produktionsabläufe zu verbessern und so den Kunden eine hochpräzise, schnelle Produktionslinie mit zuverlässigen Erträgen und Kosteneffizienz zu bieten. AIX G5 HT ist ein Niederdruck, vertikal orientierter Edelstahlreaktor mit gewölbter Oberseite und wassergekühltem Deckel. Das Innere der Reaktionskammer ist mit einer Planetendrehscheibe und zwei stationären Gaseinlaßkrümmern ausgestattet. Mit der Scheibe werden einzelne Wafer während des Abscheideprozesses gedreht. Die Gaseinlässe sorgen für eine gleichmäßige Verteilung der Prozessgase über die gesamten Waferoberflächen, was Gleichmäßigkeit und hohe Durchsatzleistungen ermöglicht. AIX G 5 HT wird üblicherweise mit HF- oder Mikrowellenleistung für Plasmaverbesserungs- und Ätzoperationen implementiert. Die HF-Leistung wird von einem abstimmbaren Generator mit einem Leistungsbereich von 10 bis 350 Watt erzeugt. Ein fortschrittliches Diagnosesystem bietet Echtzeit-Überwachung und Kontrolle aller Prozessparameter wie Leistung, Reaktantenströme, Temperaturen und andere kritische Gasphaseneigenschaften. AIXTRON AIX G5 HT bietet zahlreiche Vorteile gegenüber herkömmlichen Chargenreaktoren. Es verfügt über ein integriertes automatisches Wafer-Überwachungssystem mit der Fähigkeit, Waferfehler und Defekte im Substrat zu erkennen. Es verfügt auch über ein eingebautes Substratheizsystem, das eine genaue Regelung der Substrattemperatur während der Abscheidung ermöglicht. Zusätzlich ist AIXTRON AIX G 5 HT mit einer Vielzahl von Sensoren und Ventilen ausgestattet, um Prozesssteuerung und Gleichmäßigkeit zu gewährleisten. AIX G5 HT eignet sich für eine Vielzahl von chemischen Aufdampf-/Ätzanwendungen, einschließlich GaN, GaAs, InP, Photovoltaik und MEMS-Prozessen. Mit einer einfach zu bedienenden grafischen Benutzeroberfläche kann AIX G 5 HT einfach in eine Produktionsumgebung integriert werden. Das breite Spektrum der von AIXTRON AIX G5 HT angebotenen Prozessparameter sorgt für eine kosteneffiziente, flexible, zuverlässige und durchsatzstarke Produktion.