Gebraucht AIXTRON AIX #9409484 zu verkaufen

AIXTRON AIX ist ein CVD-Reaktor, der von AIXTRON SE, einem großen deutschen Halbleiterausrüster, hergestellt wird. AIX-Reaktoren werden bei der Herstellung von Dünnschicht-Halbleitermaterialien wie Silizium, Siliziumdioxid und dotiertem Silizium eingesetzt. AIXTRON AIX Reaktor basiert auf metall-organischen chemischen Dampfabscheidung (MOCVD) Technologie und kann in allen drei CVD-Modi verwendet werden: atmosphärische Druck chemische Dampfabscheidung (APCVD), Niederdruck chemische Dampfabscheidung (LPCVVd) und Der Reaktor ist für den Einsatz als einzige Quelle für CVD bei der Herstellung aller Materialien ausgelegt. Es verwendet ein zweistufiges Verfahren, wobei die erste Stufe eine Reaktanden-Vorwärmkammer ist und die zweite Stufe eine Reaktionskammer ist. Die Vorwärmkammer wird durch einen Induktionsofen auf die erforderliche Betriebstemperatur erwärmt. Die Reaktionskammer wird durch gasgebrannte Infrarotlampen beheizt. Das Prozeßgas wird am Reaktionsort in den Reaktor eingeleitet. Der Prozess wird durch eine präzise Steuerung geregelt. AIX Reaktor ist in der Lage, hochwertige Filme mit definierten Dicken und präziser Geometrie zu produzieren. Die super saubere Umgebung im Reaktor sorgt für hervorragende Gleichmäßigkeit und reproduzierbare optische und elektrische Eigenschaften. Die Folien können ein- oder mehrschichtig gezüchtet werden und werden häufig bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen wie Transistoren, Dioden und anderen aktiven und passiven elektronischen Bauelementen eingesetzt. AIXTRON AIX Reaktor ist in mehreren Modellen, einschließlich der Standard- AIX600, AIX1200 und AIX1800. Jedes Modell bietet erhöhte Leistungseigenschaften und die Fähigkeit zur Skalierung. Die AIX1200 und AIX1800 bieten einen höheren Grad an Prozessautomatisierung und Flexibilität. Der Reaktor kann auch mit automatisierten optischen Überwachungssystemen zur Messung der hergestellten Folien ausgestattet sein. AIX ist ein zuverlässiger und vielseitiger Reaktor, der ein hohes Maß an Kontrolle und Flexibilität bietet. Sie kann nicht nur zur Herstellung von Halbleitern verwendet werden, sondern auch zur Herstellung anderer dünner Filme wie dielektrischer, reflektierender und transparenter Schichten für optische Bauelemente. Der Reaktor ist gut für die Serienproduktion geeignet und eignet sich für den Einsatz in Reinraumumgebungen.