Gebraucht AIXTRON CCS 3X2 FT #9218419 zu verkaufen

AIXTRON CCS 3X2 FT ist ein vielseitiger, fortschrittlicher Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD) Reaktor, der entwickelt wurde, um hochwertige dünne Filme für eine Vielzahl von Anwendungen zu erzielen. Dieser Reaktor kann dünne Filme mit einer Dicke von bis zu 100 nm in einer breiten Palette von Materialien wie Oxiden, Nitriden, Diamanten und Metallen erzeugen. Es eignet sich für Verfahren, die hohe Abscheidungsraten, hohe Reinheit und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit erfordern. Dieser Reaktor hat eine 3X2 Fuß Edelstahl eingekapselte Vakuumkammer mit Viewports, die verwendet werden kann, um den Fortschritt des Abscheidungsprozesses in Echtzeit zu überwachen. Es ist mit einer leistungsstarken, hochgleichmäßigen Plasmaquelle ausgestattet, die vom AutoClamp-System unterstützt wird und die Be- und Entladezeit reduziert. Das AutoClamp-System bietet zudem eine präzise und wiederholbare Substratklemmung, die die Partikelerzeugung minimiert. Auch das PE-CVD-Verfahren wird optimiert, indem dem Gasgemisch Energie über Magnetron- oder Filament-Kathoden zugeführt wird, um Vorläufer in reaktive Spezies zu zerlegen und dünne Filme mit erhöhten Materialeigenschaften zu bilden. CCS 3X2 FT-Reaktor nutzt anspruchsvolle Hardware und Software, um die Abscheidungsparameter mit Leichtigkeit direkt zu steuern. Die Software kann Temperatur, Druck und Abscheiderate mit umfangreichen Datenerfassungsfunktionen aufrechterhalten und protokollieren sowie eine überlegene Datenanalyse in Echtzeit bereitstellen. Darüber hinaus entspricht es den SEMI- F47-0291-Standards, was dazu beiträgt, die höchste Prozesskontrolle, Genauigkeit und Wiederholbarkeit sicherzustellen. Dieser Reaktor ist für maximale Betriebszeit ausgelegt und verfügt über mehrere Funktionen für höhere Produktivität: erweiterte SPS-Steuerung für umfangreiche Prozessautomatisierung, automatische Prozessabgase, Temperaturregelung mit PID-Steuerung und automatisierter Gasabschaltung sowie bordeigene Diagnosewerkzeuge für eine einfache Analyse der verschiedenen Prozesse. Es ist eine ideale Lösung für Dünnschichtabscheidung von kleinen und großen Losgrößen, mit einem hohen Maß an Prozesskontrolle und Zuverlässigkeit. Seine weiteren Vorteile sind: schnelle Abscheidungsraten und Zykluszeiten, geringer Energieverbrauch, minimale Partikelerzeugung, ausgezeichnete Gleichmäßigkeit, Variabilität und Anpassbarkeit, einfache Wartung und unübertroffene Prozessqualität. Dieser flexible und wirtschaftliche Reaktor ist die perfekte Wahl für industrielle Dünnschichtabscheidungsanwendungen.