Gebraucht AIXTRON Crius 31x2" #293587438 zu verkaufen

AIXTRON Crius 31x2 ist ein CVD-Reaktor (High-End Chemical Vapor Deposition), der den anspruchsvollsten Anforderungen der modernen Halbleiter- und Materialforschung gerecht wird. Mit einer großflächigen Substratkapazität kann der Crius 31x2 Wafer bis 200 mm Durchmesser und bis zu zwei Substrate gleichzeitig aufnehmen. Es unterstützt auch mehrere Quellkonfigurationen, so dass für eine breite Palette von Forschungsanwendungen einschließlich Metall-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) Abscheidung, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), Atomic Layer Deposition (ALD), und mehr. Der Crius 31x2 bietet eine fortschrittliche Atmosphäre Steuerung Ausrüstung, die genaue Prozesskontrolle und wiederholbare Fähigkeit bietet. Dieses System unterstützt präzise Temperatur, Druck, Gaszusammensetzung und Durchflussmengenanpassung für jedes Substrat und jede Quelle mit unabhängiger Steuerung für bis zu vier Quellen. Dual Remote Load Lock Design ermöglicht auch mehrere Prozesse oder schnellen Substrataustausch. Die Crius 31x2 verfügt zudem über eine Reihe weiterer Funktionen, wie die AIX Software Suite, die eine On-the-Fly-Prozessoptimierung ermöglicht. Der Reaktor bietet zudem eine intuitive Benutzeroberfläche mit einem hochauflösenden Touchscreen-Display und einem intuitiven Softwareprogramm. Der Crius 31x2 ist so konzipiert, dass alle Prozesse sicher, zuverlässig und wiederholbar sind. Es bietet robuste Sicherheitsmerkmale, einschließlich Übertemperaturschutz, Druckschutz und ISO 14644 Reinraumzertifizierung. Der Crius 31x2 nutzt eine robuste Heiz- und Kühleinheit, die Temperaturen bis zu einem maximalen Bereich von 300 ° C schnell anpassen kann. Die Maschine verfügt auch über schnelle Ansprechzeiten und geringe Wärmeableitung, um wiederholbare, gleichmäßige Temperaturprofile über den Wafer zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt der Crius 31x2 über ein integriertes Plasmakontrollwerkzeug, das eine optimierte Gleichmäßigkeit, Wiederholbarkeit und lange Prozesszeiten ermöglicht. Darüber hinaus bietet der Crius 31x2 eine fortschrittliche Modularität für eine effektive Prozessverdünnungssteuerung, Mehrzonenheizung und -kühlung sowie präzise Gas- oder Trägergasdurchflussmessungen. Die Modularität umfasst auch optional für zyklische Prozesse wie Vorwärmen, Abscheiden und Abkühlen in Integration mit dem Standard-Programmablauf. Insgesamt ist AIXTRON Crius 31x2 ein fortschrittlicher, zuverlässiger und wiederholbarer CVD-Reaktor mit hoher Prozesskontrolle und wiederholbarer Fähigkeit. Es bietet umfangreiche Anwendungsmöglichkeiten, erweiterte Sicherheitsfunktionen und eine adaptive Steuerung, die Prozesszeiten und Wiederholbarkeit optimiert.