Gebraucht AIXTRON Crius 31x2" #293587440 zu verkaufen

Hersteller
AIXTRON
Modell
Crius 31x2"
ID: 293587440
Weinlese: 2008
MOCVD System 2008 vintage.
AIXTRON Crius 31x2 ist ein fortschrittlicher MOCVD-Epitaxiewachstumsreaktor, der für eine Vielzahl von Anwendungen in der optoelektronischen und Halbleiterproduktion entwickelt wurde. Dieser Reaktor ist ideal für Hochleistungs-Dünnschichtwachstum auf einer Vielzahl von Substraten und ermöglicht eine präzise Kontrolle von Dicke, Dotierung und kristalliner Qualität. Der Crius 31x2 ist mit einem einzigartigen Dreizonen-Quarzreaktor ausgestattet, der hochwertige Folien mit präzisen Dotierstoffverteilungen über große Flächen liefert. Der Reaktor verfügt über einen 31x2-Zoll-Bereich mit einem Split-Pocket-Design, das eine unabhängige Steuerung der Wachstumstemperaturen in beiden Taschen ermöglicht. Jede Tasche ist mit zwei leistungsstarken, schnell ansprechenden Wechselstrom-Widerstandsbelastungen mit einer maximalen Leistung von 3,2 kW und einem Temperaturabstimmbereich von 500 bis 1.450 ° C ausgestattet. Zusätzlich hat dieser Reaktor zwei variable Temperaturzonen: eine obere Zone, die zum Vorwärmen und Bilden des Substrats verwendet wird, und eine untere Zone, die zum Wachsen der epitaktischen Schichten verwendet wird. Der Crius 31x2 beinhaltet einen Prozessleitrechner zur vollständigen Echtzeitsteuerung der Steuerparameter. Das schnelle Ansprechen der Wechselstrom-Heizelemente ermöglicht die präzise Steuerung von Temperaturprofilen und eine präzise Steuerung der Dotierstoffkonzentrationen in den Folien. Der Prozessleitrechner ist mit einem erweiterten Softwarepaket für detaillierte Rezepte und Datenanalysen ausgestattet. Der Reaktor ist auch mit einer hochmodernen Gaspumpenkonfiguration mit automatischer Steuerung der Gaszusammensetzung ausgestattet, um die hochwertigsten Filme mit genauen Dotierungsstufen zu gewährleisten. AIXTRON bietet auch optionale erweiterte Automatisierungsfunktionen, um den Eingriff des Bedieners zu minimieren, die Rüstzeit zu reduzieren und die Wachstumsrate zu optimieren. Das System umfasst auch ein langlebiges, effektives Wafer-Handling-System für verbesserte Substratbeladung, Entladung und Handhabung. Der Crius 31x2 bietet hochwertige, hochgleichmäßige Epitaxiefolien, die auf innovative Geräteanwendungen zugeschnitten werden können. Seine präzise Steuerung der Temperatur- und Dotierstoffkonzentrationen gewährleistet eine hervorragende optoelektronische und Halbleiterbauelementleistung. Die inhärenten wartungsarmen Anforderungen, die lange Lebensdauer und die hervorragenden Ergebnisse machen AIXTRON Crius 31x2 zu einer idealen Wahl für die Spitzenproduktion von Geräten.
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