Gebraucht AIXTRON Crius 31x2 #293587444 zu verkaufen

Hersteller
AIXTRON
Modell
Crius 31x2
ID: 293587444
Weinlese: 2008
MOCVD System 2008 vintage.
AIXTRON Crius 31x2 ist eine handelsübliche reaktive Ionenätzanlage, die für die präzise und wiederholbare Verarbeitung von Substraten konzipiert wurde. Es ist mit einem fortschrittlichen Prozessleitsystem ausgestattet, das einen hohen Durchsatz und wiederholbare Ergebnisse liefert. Sein benutzerfreundliches Bedienfeld bietet eine präzise Steuerung des gesamten Ätzprozesses. Das Gerät ist mit einer leistungsstarken 31 kW Quer-HF-Stromversorgung, einer einzigartigen, hochpräzisen und spezialisierten direkten Ätzkammer und einer zuverlässigen Robotermaschine zum Be- und Entladen von Substraten ausgestattet. Das proprietäre Quer-HF-Netzteil ist mit einer hohen Eingangsspannungsfrequenz von 13,56 MHz ausgestattet, die zwischen 6,0 und 30 W einstellbar ist und eine präzise Steuerung der Ätzraten ermöglicht. Der Ätzprozess wird durch die Steuerung überwacht und eingestellt, die auch bei kleinen Substraten eine berührungslose Steuerung unterstützt und präzise und wiederholbare Ergebnisse gewährleistet. Darüber hinaus wurde die innovative, hochgenaue direkte Ätzprozesskammer entwickelt, um den Stromverbrauch zu minimieren und gleichzeitig große gleichmäßige Ätzhohlraumtiefen bereitzustellen. Durch seine hohe Prozessstabilität und Wiederholbarkeit ist AIXTRON CRIUS 31 X 2 ideal für Serien- und Industrieanwendungen geeignet. Es ist in der Lage, bis zu 100 Wafer mit Präzision und Wiederholbarkeit in 10 Minuten zu ätzen, mit einer Wafergröße von bis zu 200 mm und einer Ätztiefe von mehr als 20 μ m. Darüber hinaus ist es mit Softwarepaketen zur prädiktiven Prozesssteuerung und Echtzeit-Datenprotokollierung ausgestattet. Darüber hinaus ist es auch kompatibel mit Standard-COTS-Prozessrezepten und Gasboxen. Crius 31x2 kommt mit einem Roboter, der sowohl als Träger in der Ätzkammer als auch als Palette für die Substrathandhabung in der vorderen Ladekammer eingesetzt werden kann. Dies bietet eine hervorragende Flexibilität für bis zu 40 Wafer, die in einem Prozesszyklus für einen höheren Durchsatz verarbeitet werden. Die hohe Positioniergenauigkeit des Entlade- und Beladeprozesses reduziert Ausfallzeiten und ermöglicht einen ununterbrochenen Produktionsprozess. Insgesamt eignet sich CRIUS 31 X 2 gut für Ätz- und Serienanwendungen und ist mit einer Reihe von Funktionen konzipiert, die die Produktivität maximieren. Seine Präzision und Wiederholbarkeit machen es zu einem zuverlässigen Werkzeug für die erforderlichen Anwendungen.
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