Gebraucht AIXTRON Crius 31x2 #293587447 zu verkaufen

AIXTRON Crius 31x2 ist ein Hochleistungsreaktor für metalorganische Dampfphasenepitaxie (MOVPE), der für den Anbau hochwertiger epitaktischer Schichten aus anorganischen Materialien verwendet wird. Es ist mit einer 2-Zoll-MnPIII-Plattform ausgestattet, die für eine verbesserte Schichtgleichförmigkeit über große Flächen ausgelegt ist. Das System ist ideal für die Herstellung von Geräten, die eine präzise Dickensteuerung von Halbleiterschichten über große Bereiche wie Leuchtdioden (LEDs) und andere Elektronikgeräte erfordern. Die effiziente Produktivität und Wiederholbarkeit von AIXTRON CRIUS 31 X 2 profitieren von einer Reihe umfassender Funktionen. Dazu gehört eine gitterartige Verteilertechnologie zur präzisen Gasförderung, die eine präzise Gasregelung für präzise Schichtdicke und Gleichmäßigkeit auf einer größeren Fläche ermöglicht. Zusätzlich sorgen zwei lineare Gleichstromquellen, eine mittelfrequente Hochleistungsquelle und eine hohe Magnetspule für eine präzise Steuerung und Reproduzierbarkeit der Wachstumsbedingungen. Der Reaktor kann sicher und stabil mit unterschiedlichsten Temperaturen und Drücken betrieben werden. Die homogene Reaktorkammer soll eine gute Homogenitätsregelung bei der Abscheidung auf großen Substraten mit präziser Temperaturregelung über den gesamten Wafer durch in-situ thermische Kartierung gewährleisten. Darüber hinaus sorgt das direkte Substratheizsystem für eine gleichmäßige Temperatur des gesamten Substratbereichs. Crius 31x2 ist mit einer erweiterten, benutzerfreundlichen grafischen Benutzeroberfläche (GUI) konzipiert, um umständliche, manuelle Aufgaben automatisieren zu können. Darüber hinaus können Anwender den Maschinenzustand während des Wachstumsprozesses überwachen und manuell anpassen, um optimale Ergebnisse zu erzielen. Die benutzerfreundliche GUI optimiert Prozessrezepte und Datenerfassung für schnelles Experimentieren und Prozess-Tuning. CRIUS 31 X 2 wurde entwickelt, um eines der zuverlässigsten und effizientesten Systeme zur Herstellung sensibler Geräte zu sein, das eine ultimative Prozesskontrolle und reproduzierbare Qualitätsergebnisse liefert. Es ist ein ideales System für industrielle und Forschungsanwendungen, da es eine stabilisierte, leistungsstarke Abscheidung von epitaktischen Schichten für verschiedene Geräte über große Bereiche ermöglicht.